[发明专利]用于在处理系统中处理工件的设备和方法

权利要求书

1.一种用于处理工件的设备，所述设备包括：

处理腔室，所述处理腔室包括上电极和下电极，所述下电极包括 基座部，所述基座部具有配置成在处理期间支撑所述工件的顶面；和

在所述处理腔室中的工件竖直升降机构，所述工件竖直升降机构 包括设置在所述上电极和所述下电极之间的板，并且所述板包括外周 边和在所述外周边的内部的第一开口，所述第一开口的尺寸设计成接 收所述基座部，并且所述板配置成相对于所述基座部在第一位置和第 二位置之间竖直移动，以便将对所述工件的支撑从所述板转移到所述 基座部的顶面，在所述第一位置中，所述板将所述工件与所述基座部 保持成非接触的关系，在所述第二位置中，所述基座部凸出到所述板 的上方。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述上电极能够朝向所述下 电极移动，并且还包括：

多个与所述上电极机械连接的弹性偏压推动块，所述弹性偏压推 动块适合于当所述上电极朝向所述下电极移动时接触所述板，以便将 所述板从所述第一位置移到所述第二位置。

3.根据权利要求2所述的设备，还包括：

底部；和

盖子，所述盖子能够相对于所述底部在打开位置与关闭位置之间 移动，在所述打开位置中，所述盖子与所述底部分离，在所述关闭位 置中，所述盖子紧接所述底部，其中所述上电极与所述盖子机械连接， 并且所述弹性偏压推动块适合于当所述盖子从所述打开位置朝向所述 关闭位置移动时接触所述板，以便从所述第一位置向所述第二位置推 动所述板。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述上电极和下电极具有大 致平行的面对表面，并且所述板位于所述面对表面之间。

5.根据权利要求1所述的设备，还包括：

在所述下电极和所述上电极之间的绝缘隔离环，所述绝缘隔离环、 所述下电极和所述上电极共同地限定所述处理腔室的边界，并且所述 板在外围上位于所述绝缘隔离环的内部。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述上电极能够朝向所述下 电极移动，并且还包括：

多个配置成将所述板与所述下电极连接的弹性偏压支撑件，所述 弹性偏压支撑件配置成推动所述板远离所述下电极，以提供所述第一 位置。

7.根据权利要求6所述的设备，还包括：

底部；和

盖子，所述盖子能够相对于所述底部在打开位置与关闭位置之间 移动，在所述打开位置中，所述盖子与所述底部分离，在所述关闭位 置中，所述盖子紧接所述底部，

其中所述上电极与所述盖子机械连接，并且所述弹性偏压支撑件 适合于当所述上电极朝向所述下电极移动时屈服，以便允许所述板从 所述第一位置移到所述第二位置。

8.根据权利要求6所述的设备，其中所述板的所述第一开口配置 成当所述板处于所述第一位置中时支撑所述工件，并且还包括：

第二构件，该第二构件配置成作为对所述板的替换通过所述弹性 偏压支撑件与所述下电极连接，所述第二构件包括直径不同于所述板 中的所述第一开口的第二开口。

9.根据权利要求8所述的设备，其中所述基座部的尺寸设计成配 合在所述第一开口内，并且所述基座部配置成被从所述处理腔室移除， 以用于与另一基座部调换，该另一基座部的尺寸设计成配合在所述第 二构件中的所述第二开口内。

10.根据权利要求1所述的设备，其中所述基座部从所述下电极朝 向所述上电极凸出。

11.根据权利要求1所述的设备，其中所述板包括从所述开口延伸 到所述外周边的间隙。

12.根据权利要求11所述的设备，还包括：

由所述下电极支撑的固定构件，所述固定构件具有当所述上电极 相对于所述下电极移动时相对于所述基座部的固定位置，并且当所述 板处于所述第二位置中时，所述固定构件至少部分地填充所述间隙。