[发明专利]用于掺杂太阳能电池制造中使用的化合物层的工艺无效
申请号: | 200780031806.5 | 申请日: | 2007-07-26 |
公开(公告)号: | CN101506991A | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
发明(设计)人: | B·巴索尔 | 申请(专利权)人: | 索罗能源公司 |
主分类号: | H01L31/00 | 分类号: | H01L31/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李 帆 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 掺杂 太阳能电池 制造 使用 化合物 工艺 | ||
1.制备用于太阳能电池的掺杂的IBIIIAVIA族吸收层的方法,该 方法包括:
形成金属堆叠,形成金属堆叠的步骤包括如下步骤:
使用一种或多种IB族镀覆溶液电镀至少一层IB族材料,和
使用一种或多种IIIA族镀覆溶液电沉积至少一层IIIA族材 料,以及
使金属堆叠与至少一种VIA族材料反应,
其中一种或多种IB族镀覆溶液和一种或多种IIIA族镀覆溶液各 自含有一定浓度的碱金属,所述碱金属选自Na、K和Li。
2.根据权利要求1的方法,其中IB族材料是Cu,至少一层IIIA 族材料是包括In层和Ga层的多层。
3.根据权利要求2的方法,其中电镀和电沉积步骤形成选自如下 的金属堆叠:Cu/Ga/In、Cu/Ga/Cu/In、Ga/Cu/In、In/Cu/Ga、Cu/In/Ga、 In/Cu/Ga/Cu、In/Cu/Ga/In、In/Cu/In/Ga、In/Cu/Ga/In/Cu、In /Cu/In/Ga/Cu、Ga/Cu/In/Cu、Ga/Cu/In/Ga、Ga/Cu/Ga/In、 Ga/Cu/In/Ga/Cu、Ga/Cu/Ga/In/Cu、Ga/In/Cu、Ga/In/Cu/Ga、 Ga/In/Cu/In、Ga/In/Cu/Ga/Cu、Ga/In/Cu/In/Cu、Ga/In/Ga/Cu、 In/Ga/Cu、In/Ga/Cu/In、In/Ga/Cu/Ga/Cu和In/Ga/Cu/In/Cu。
4.根据权利要求3的方法,其中碱金属的浓度为500ppm-2M。
5.根据权利要求1的方法,还包括使用Se镀覆溶液在金属堆叠上 电沉积Se层由此形成前体层的步骤。
6.权利要求5的方法,其中Se镀覆溶液包含一定量的选自Na、K 和Li的碱金属。
7.根据权利要求6的方法,其中碱金属的量为500ppm-2M。
8.根据权利要求1的方法,其中金属堆叠含有至少1019原子/cc 的碱金属。
9.根据权利要求6的方法,其中前体层含有至少1019原子/cc的 碱金属。
10.制备用于太阳能电池的掺杂的IBIIIAVIA吸收层的方法,该方 法包含:
形成金属堆叠,形成金属堆叠的步骤包括如下步骤:
使用第一镀覆溶液电镀至少一个金属层,所述金属层包括 Cu、以及Ga与In中的至少一种,和
使用第二镀覆溶液电沉积至少一层膜,所述膜包括Ga和In 中的至少一种,以及
使金属堆叠与至少一种VIA族材料反应,
其中第一镀覆溶液和第二镀覆溶液各自含有一定浓度的碱金属, 所述碱金属选自Na、K和Li。
11.根据权利要求10的方法,其中碱金属的浓度为500ppm-2M。
12.根据权利要求10的方法,还包括使用Se镀覆溶液在金属堆叠 上电沉积Se层由此形成前体层的步骤。
13.根据权利要求12的方法,其中Se镀覆溶液包含一定量的选自 Na、K和Li的碱金属。
14.根据权利要求13的方法,其中碱金属的量为500ppm-2M。
15.根据权利要求13的方法,其中前体层含有至少1019原子/cc 的碱金属。
16.根据权利要求10的方法,其中金属堆叠含有至少1019原子/cc 的碱金属。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的