[发明专利]负性工作元件的成像和显影方法

权利要求书

1.一种提供成像的和显影的元件的方法，包括：

A)使用激光器对负性工作的可成像元件进行成像曝光，该元件包括基材，在其上具有可成像层来提供曝光和非曝光区域，所述可成像层包含：

可自由基聚合的组分，

引发剂组合物，其能够产生足够的自由基，以在暴露于成像辐射时引发所述可自由基聚合的组分聚合，

辐射吸收化合物，以及

聚合粘合剂，和

B)使所述经成像曝光的元件与单相显影剂接触，仅除去所述非曝光区域而提供显影的元件，

其中所述显影剂的pH小于12且包含：

a)包含含氮杂环的两性表面活性剂，

b)具有两个或更多氮原子的两性表面活性剂，或

c)a)中的两性表面活性剂和b)中的两性表面活性剂。

2.权利要求1的方法，其中所述两性表面活性剂具有含氮的杂环，且所述显影剂进一步包含至少0.5重量％的苄醇。

3.权利要求1的方法，其中所述显影剂的pH为6.5-9.5。

4.权利要求1的方法，其中所述显影剂不含硅酸盐，氢氧化物，或两者均不含。

5.权利要求4的方法，其中所述显影剂还不含有：a)苯酚与环氧乙烷或环氧丙烷的反应产物，(b)具有6个或更少碳原子的烷撑二醇的酯和醚，以及(c)单-和二乙醇胺类。

6.权利要求1的方法，其中所述显影剂进一步含有苯磺酸或萘磺酸表面活性剂，其含量至少为5重量％。

7.权利要求1的方法，其中所述a)的两性表面活性剂在杂环上含有两个碱性氮原子，且其在所述显影剂中的含量至少为2重量％。

8.权利要求1的方法，其中所述两性表面活性剂含有羧基和氮原子，其中氮原子数大于羧基数。

9.权利要求1的方法，其中所述显影剂的pH为6.5-9.5，所述两性表面活性剂的含量为2-10重量％，所述显影剂进一步含有0.5-15重量％的苄醇，5-15重量％的苯磺酸或萘磺酸盐表面活性剂，且所述显影剂中所有的所述两性表面活性剂和苯磺酸或萘磺酸盐表面活性剂与苄醇的重量比率至少为2.5∶1。

10.权利要求1的方法，其中所述a)的两性表面活性剂具有连接至含氮杂环上的羧酸根。

11.权利要求1的方法，其中所述成像的元件在步骤B之前进行整体热处理。

12.权利要求1的方法，其中所述成像曝光是使用λ_max为650-1400nm的激光器发出的成像辐射进行，且所述引发剂组合物含有对所述成像辐射响应的化合物。

13.权利要求12的方法，其中所述引发剂组合物包含由以下结构(I)表示的二芳基碘鎓硼酸盐化合物：

其中X和Y独立地为卤素，烷基，烷氧基，或环烷基，或者两个或多个相邻的X或Y基团可组合而与相应的苯环形成稠合环，p和q独立地为0或1-5的整数，前提是p或q至少为1，且X和Y取代基或稠合环中的碳原子总数至少为6，以及

Z^-是由以下结构(II)表示的有机阴离子：

其中R₁，R₂，R₃，和R₄独立地为烷基，芳基，烯基，炔基，环烷基，或杂环基团，或R₁，R₂，R₃和R₄中的两个或多个可结合在一起而与硼原子形成杂环。

14.权利要求1的方法，其中所述可成像元件进一步包含分布在所述可成像层之上的氧不能渗透的顶涂层。

15权利要求1的方法，进一步包括使用所述成像曝光的和显影的元件来在接受材料上印刷影像。

16.由权利要求1的方法获得的成像元件。

17.权利要求16的成像元件，其为平版印刷板。

18.权利要求1的方法，其中所述成像曝光是使用λ_max为250-450nm的成像辐射进行的。