[发明专利]光扩散片有效

专利信息
申请号: 200780031847.4 申请日: 2007-07-06
公开(公告)号: CN101512392A 公开(公告)日: 2009-08-19
发明(设计)人: 渡边真太郎;山田毅;高桥淳 申请(专利权)人: 电气化学工业株式会社
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;B32B7/02;B32B27/18;B32B27/30;C08G69/44;C08K5/17;C08K5/3435;C08K5/3475;C08L25/14;C08L77/12
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 陈剑华;苗 堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 扩散
【权利要求书】:

1.一种多层片,是多层结构的光扩散片,正面层a和背面层c由 下述(A)成分形成,中间层b含有(B)成分,

(A)成分:苯乙烯系树脂组合物,相对于含有苯乙烯系单体单元 20~100质量%和(甲基)丙烯酸酯系单体单元80~0质量%的苯乙烯 系共聚物100质量份,含有与该苯乙烯系共聚物的折射率差在0.005以 内且平均粒径为5~15μm的未熔融化合物1~10质量份、受阻胺系化 合物0.1~2质量份和苯并三唑系化合物0.1~2质量份而成;

(B)成分:苯乙烯系树脂组合物,相对于含有苯乙烯系单体单元 90~99质量%和(甲基)丙烯酸系单体单元10~1质量%的苯乙烯系共 聚物100质量份,含有平均粒径为1~10μm的聚有机硅氧烷交联珠0.5~ 2.5质量份而成。

2.根据权利要求1所述的多层片,其中,(A)成分中所含的未熔 融化合物是作为单体单元含有苯乙烯和甲基丙烯酸甲酯的交联共聚物。

3.根据权利要求1所述的多层片,其中,受阻胺系化合物为双 (2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯。

4.根据权利要求1所述的多层片,其中,苯并三唑系化合物为2 -(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚。

5.根据权利要求1所述的多层片,其中,在(A)成分和(B)成 分的至少一者中,相对于苯乙烯系共聚物100质量份,还含有苯并唑 系化合物0.0005~0.5质量份。

6.根据权利要求5所述的多层片,其中,苯并唑系化合物为2,5 -噻吩二基(5-叔丁基-1,3-苯并唑)。

7.根据权利要求1所述的多层片,其中,在(A)成分中,相对于 苯乙烯系共聚物100质量份,还含有胺系表面活性剂0.1~3质量份。

8.根据权利要求7所述的多层片,其中,胺系表面活性剂是N- 羟基乙基-N-(2-羟基烷基)胺。

9.根据权利要求1所述的多层片,其中,在(A)成分中,相对于 苯乙烯系共聚物100质量份,含有与苯乙烯系共聚物的折射率差为0.02 以下的聚醚酯酰胺嵌段共聚物7~20质量份、以及阴离子系表面活性剂 和非胺非离子系表面活性剂2质量份以下。

10.根据权利要求9所述的多层片,其中,聚醚酯酰胺嵌段共聚物 是作为单体单元含有以下(F-A)、(F-B)和(F-C)的聚醚酯酰胺 嵌段共聚物,

(F-A):碳原子数为6以上的氨基羧酸或内酰胺、或者碳原子数 为6以上的二胺与二羧酸的盐;

(F-B):通式(1)~(3)中的至少1种二羟基化合物,

式中,R1表示氧化乙烯基,R2表示氧化乙烯基或氧化丙烯基,X 表示卤素、碳原子数=1~6的烷基或者磺酸基或磺酸基的金属盐,L表 示0~4的整数,m及n表示16以上的整数,

式中,R1表示氧化乙烯基,R2表示氧化乙烯基或氧化丙烯基,X 表示卤素、碳原子数=1~6的烷基或者磺酸基或磺酸基的金属盐,Y表 示碳原子数=1~6的亚烷基、碳原子数=1~6的烷叉基、碳原子数=7~ 17的环烷叉基、碳原子数=7~17的芳基烷叉基、O、SO、SO2、CO、 S、CF2、C(CF3)2或NH,L表示0~4的整数,m及n表示16以上 的整数,

式中,R1表示氧化乙烯基,R2表示氧化乙烯基或氧化丙烯基,m 及n表示16以上的整数;

(F-C):碳原子数为4~20的二羧酸。

11.根据权利要求9或10所述的多层片,其中,(A)成分中的阴 离子系表面活性剂及非胺非离子系表面活性剂的配合比,以质量比计, 为阴离子系表面活性剂/非胺非离子系表面活性剂=0.5/99.5~15/85。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电气化学工业株式会社,未经电气化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780031847.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top