[发明专利]基于烃的硫溶剂体系和方法

权利要求书

1.一种气体生产装置，包括： 

与分离器流体连接的井，其中配置该分离器以使所述井输出分离为气体部分和富溶剂部分； 

与分离器流体连接的加氢器，其被配置以处理富溶剂，由此容许生产H₂S产物和再生的溶剂；和 

循环回路，其被配置以容许再生的溶剂进料到井的顶端位置、井的底孔位置和传送井输出的管路中的至少一个位置，由此容许形成富溶剂部分。 

2.权利要求1的生产装置，进一步包括处理单元，其与加氢器流体连接且其被配置以生产富氢的循环流和富H₂S的酸性气流。 

3.权利要求2的生产装置，其中该处理单元包括选自膜分离单元、基于溶剂的吸附单元和变压吸附单元的分离器。 

4.权利要求2的生产装置，进一步包括Claus单元，其与处理单元流体连接且其被配置以接收富H₂S的酸性气流和生产元素硫。 

5.权利要求1的生产装置，进一步包括Claus单元，其与加氢器流体连接且其被配置以接收H₂S产物和生产元素硫。 

6.权利要求1的生产装置，进一步包括脱氢器，其与加氢器流体连接且其被配置以使至少一部分再生的溶剂脱氢。 

7.权利要求1的生产装置，其中再生的溶剂包括脂环烃、链烷烃和芳烃中的至少一种。 

8.权利要求1的生产装置，进一步包括支管，其被配置以容许使来自加氢器下游位置的一部分再生溶剂在加氢器上游位置进料到井输出或者直接进料到加氢器。 

9.权利要求1的生产装置，进一步包括缓冲罐或储罐，其与加氢器和循环回路流体连接。 

10.权利要求1的生产装置，其中配置循环回路以容许再生的溶剂进料到井的顶端位置、井的底孔位置和传送井输出的管路中的至少两个位置。 

11.一种从权利要求1所述的生产装置的气井输出中除去硫的方法，包括： 

将再生的溶剂进料到井的顶端位置、井的底孔位置和传送气井输出的管路中的至少一个位置，由此形成包含溶解的硫的混合井输出； 

将该混合井输出分离为富溶剂部分和气体部分；和 

加氢处理富溶剂部分，由此形成H₂S产物和再生的溶剂。 

12.权利要求11的方法，其中该溶剂包括脂环烃、链烷烃和芳烃中的至少一种。 

13.权利要求11的方法，其中在保持富溶剂的去饱和且将至少一部分溶解的硫转化为H₂S的条件下进行加氢处理。 

14.权利要求11的方法，进一步包括步骤：使至少一部分再生的溶剂去饱和。 

15.权利要求11的方法，进一步包括步骤：在下游Claus单元中将H₂S产物转化为元素硫。 

16.权利要求11的方法，其中至少一部分再生的溶剂用作加氢处理步骤中的循环进料。 

17.一种再生富硫溶剂的方法，其溶解的硫浓度为至少5wt％，其中在分离器上游形成并从权利要求1所述的生产装置的气井中提供该富硫溶剂，该方法包括步骤：加氢处理该富硫溶剂，由此形成H₂S产物和再生的溶剂。 

18.权利要求17的方法，其中将H₂S产物进一步处理以生产富氢的循环流和富H₂S的酸性气流。 

19.权利要求17的方法，其中将至少一部分再生的溶剂进料到井的顶端位置、井的底孔位置和传送井输出的管路中的至少一个位置，由此形成该富硫溶剂。 

20.权利要求17的方法，其中在保持该富硫溶剂的去饱和且将至少一部分溶解的硫转化为H₂S的条件下进行加氢处理。