[发明专利]制造半导体的方法和设备有效
申请号: | 200780032294.4 | 申请日: | 2007-08-29 |
公开(公告)号: | CN101542703A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
发明(设计)人: | 文森特·陈;罗登·托帕西欧;尼尔·麦克莱伦 | 申请(专利权)人: | ATI科技无限责任公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/68 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 章社杲;吴贵明 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 加拿大;CA |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 半导体 方法 设备 | ||
1.一种形成多个半导体芯片封装的方法,所述方法包括:
a)提供基片面板,其待分成多个基片,每个基片用于形 成所述多个半导体芯片封装中的一个,所述基片面板具有第一 热膨胀系数(CTE);
b)随着将部件安装在所述基片面板上而提供用于支撑所 述基片面板的托架,所述托架具有第二CTE,该第二CTE小 于所述第一CTE;
c)分别将所述基片面板和所述托架加热至第一和第二高 温;
d)将在所述第一高温的所述基片面板安装到所述托架以 提供所述托架和所述基片面板之间的连接,所述托架处于所述 第二高温;
e)将所述托架和所述基片面板从所述第一和第二高温冷 却,由此在至少一个方向将所述基片面板张紧;以及
f)从所述基片面板拆除所述托架。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一和第二高温相同。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述托架和所述基片面板之 间的连接是机械连接,从而当所述托架和所述基片面板冷却 时,该托架将在纵向和横向的至少一个方向上向所述基片面板 施加张力。
4.根据权利要求3所述的方法,其中所述机械连接包括:所述托 架和所述基片面板之一包括多个突出,其适于容纳在所述托架 和所述基片面板的另一个中对应的多个槽中,从而所述基片面 板在纵向和横向的至少一个方向上由容纳在所述基片面板的 所述槽中的所述突出施加的力张紧。
5.根据权利要求4所述的方法,其中所述突出在所述托架上,所 述槽在所述基片面板中。
6.根据权利要求4所述的方法,其中所述突出和所述槽配置为当 所述托架加热超过所述第一高温以及所述基片面板加热超过 所述第二高温时,允许所述基片面板膨胀而所述突出不会将所 述基片面板压缩。
7.根据权利要求1所述的方法,其中所述连接是可操作的以当所 述托架加热超过所述第一高温和所述基片面板加热超过所述 第二高温时,允许所述基片面板膨胀而所述托架不会将所述基 片面板压缩。
8.根据权利要求1所述的方法,进一步包括在(c)之后,
g)将多个模片安装并电连接到所述基片面板。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述安装和电连接包括回流 多个焊接凸起。
10.根据权利要求8所述的方法,进一步包括,在(d)之后,
h)后底部填充所述多个模片。
11.根据权利要求10所述的方法,进一步包括在(d)之后但在(e) 之前,
i)将加强面板贴附到所述基片面板从而所述基片面板设 在所述托架和所述加强面板之间。
12.根据权利要求10所述的方法,,进一步包括在(f)之后
j)将所述基片面板、所述多个模片和所述加强面板分割 成形为所述多个半导体芯片封装,每个具有所述多个模片的至 少一个。
13.根据权利要求1所述的方法,其中所述基片面板具有薄芯。
14.根据权利要求1所述的方法,其中所述基片面板无芯。
15.根据权利要求7所述的方法,其中所述基片面板具有薄芯或者 无芯。
16.根据权利要求11所述的方法,其中所述基片面板具有薄芯或 者无芯。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ATI科技无限责任公司,未经ATI科技无限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780032294.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:低电阻接触结构及其制造
- 下一篇:半导体器件和制造半导体器件的方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造