[发明专利]增强型广谱UV辐射过滤剂及方法

权利要求书

1.一种用于保护体外遗传材料免于受到遗传危害性电磁/紫外线 辐射诱导的损伤、以及细胞DNA攻击性化学制品诱导的损伤的方法，该 方法包括：

将遗传危害性紫外线辐射过滤型屏障放置于紫外线辐射来源与包 含电磁/紫外线辐射敏感性遗传材料的靶标之间，其中所述的屏障包含： 位于核酸基聚合物网络中的有效量的电磁/紫外线辐射过滤性核酸，以 及活性电磁/紫外线吸收和/或阻断材料。

2.位于核酸基聚合物网络中的有效量的电磁/紫外线辐射过滤性核 酸，以及活性电磁/紫外线吸收和/或阻断材料在制备屏障中的用途，所 述屏障用于保护遗传材料免于受到遗传危害性电磁/紫外线辐射诱导的 损伤、以及细胞DNA攻击性化学制品诱导的损伤。

3.权利要求1所述的方法或权利要求2所述的用途，其中所述的 核酸得自：多脱氧核糖核酸、多核糖核酸、腺嘌呤、胸腺嘧啶、胞嘧啶、 鸟嘌呤、它们的衍生物以及混合物。

4.权利要求1所述的方法或权利要求2所述的用途，其中：所述 的活性材料包括UVA和/或UVB亲水性有机UV屏蔽剂、和/或亲脂性有 机UV屏蔽剂、和/或矿物UV屏蔽纳米颜料。

5.权利要求1所述的方法或权利要求2所述的用途，其中所述的 活性材料得自：二氧化钛、氧化铁、二氧化锆、氧化锌、氧化铈、甲氧 肉桂酸辛酯、二苯甲酮-3、氰双苯丙烯酸异辛酯(octocrylene)、水 杨酸辛酯、酵母提取物、trypone、琼脂糖、C20-40、蔗糖、胶原、纤 维素、弹性蛋白、视黄酸、氨基酸、聚乙烯、perform acid 35D acid、 L-丝氨酸、藻酸钠、褐藻酸、硅氧烷、硅酸盐、反应性硅烷醇和密封剂。

6.权利要求1所述的方法或权利要求2所述的用途，其中所述的 活性电磁辐射阻断材料得自：氧化铅，含铜铅，硼10，氮化硼，碳化硼， 聚乙烯/硼，金属氧化物/碳，铝，锂，钇，锆，钛，氢化锂，铀和超顺 磁性氧化铁。

7.权利要求1所述的方法或权利要求2所述的用途，其中：所述 的聚合物包括有序的3维网络。

8.权利要求4所述的方法或用途，其中：所述核酸的存在量至多 为20％(W/V)。

9.权利要求1所述的方法或权利要求2所述的用途，其中：将所 述的核酸稀释成浓度为0.01％(W/V)，而同时保持UV透射率不大于8％。

10.权利要求1所述的方法或权利要求2所述的用途，其中：将所 述的核酸稀释成浓度为0.015％(W/V)，而同时保持UV透射率不大于3％。

11.权利要求1所述的方法或权利要求2所述的用途，其中：将所 述的核酸稀释成浓度为0.03％(W/V)，而同时保持基本上所有UV的UV 透射率。

12.权利要求3所述的方法或用途，其进一步包括以下步骤：照射 所述的经涂敷或经浸渍的表面，从而诱导多脱氧核糖核酸或多核糖核酸 与所述的聚合物网络交联。

13.一种用于保护遗传材料免于受到遗传危害性紫外线辐射诱导 的损伤的组合物，其包含：位于核酸基聚合物网络中的有效量的紫外线 辐射过滤性核酸，以及活性UV吸收和/或阻断材料。

14.权利要求13所述的组合物，其中所述的核酸选自：多脱氧核 糖核酸、多核糖核酸、腺嘌呤、胸腺嘧啶、胞嘧啶、鸟嘌呤、它们的修 饰衍生物以及混合物。

15.权利要求13所述的组合物，其中：所述的活性材料包括UVA 和/或UVB亲水性有机UV屏蔽剂、和/或亲脂性有机UV屏蔽剂、和/或 矿物UV屏蔽纳米颜料。