[发明专利]可编程的聚电解质电开关无效

专利信息
申请号: 200780032356.1 申请日: 2007-08-27
公开(公告)号: CN101542768A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: O·塞多伦科;N·B·日特内夫 申请(专利权)人: 卢森特技术有限公司
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;G11C13/02;H01L51/05
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 段晓玲;韦欣华
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 可编程 电解质 开关
【说明书】:

背景

发明领域

本发明涉及电开关以及制造和操作电开关的方法。

相关技术论述

这部分介绍了可以有助于更好理解本发明的方面。因此,这部分的 论述要照这样解读。这部分的论述不应被理解为承认什么是现有技术或 什么不是现有技术。

有意义的研究活动已致力于制造具有小的横向特征尺寸的传统电 路器件。相当多的努力已投入于制造具有小于约0.5微米的横向特征尺 寸的电开关和晶体管。

有意义的研究活动也已致力于制造其中有源层是有机性质的传统 电路器件。在这类器件中,金属固体电极与有源有机层之间界面处的作 用可以控制该器件的电特性。

概述

电开关的一些实施方案具有表现出记忆性能的有源有机沟道。该记 忆性能使控制电压能在基本导电和基本不导电状态之间切换有源有机 沟道。该记忆性能能使有源有机沟道在移除控制电压后保持导电和非导 电状态。

一个实施方案展现了一种方法,其包括在基底上提供第一固体电 极,在一部分第一固体电极上方形成聚电解质层,和在一部分聚电解质 层上形成第二固体电极。形成聚电解质层的行为包括使该层的聚合物分 子化学键合到接合区域上。

另一实施方案展现了一种方法,其包括在基底上提供第一固体电 极,在一部分第一固体电极上方形成聚电解质层,和在一部分聚电解质 层上形成第二固体电极。该聚电解质层在第一和第二固体电极之间具有 小于约20纳米的厚度。

在上述方法的一些实施方案中,形成第二固体电极的行为在该部分 第一固体电极上方的聚电解质的大分子单层上产生第二固体电极。

在上述方法的一些实施方案中,形成聚电解质层包括使该层的聚合 物分子化学键合到在该部分第一固体电极上的锚定层上。

在一些实施方案中,上述方法包括用包含金属离子或铵阳离子或包 含吡啶、胺、苯胺、吡啶衍生物和苯胺衍生物之一的溶液处理聚电解质 层。

在一些实施方案中,上述方法包括在基底上表面上集成荫罩。

在上述方法的一些实施方案中,聚电解质层的形成产生厚度小于约 12纳米的层。

另一实施方案展现了一种装置,其包括在基底上的第一固体电极、 在一部分第一固体电极上方的聚电解质层、在一部分聚电解质层上的第 二固体电极和在该部分第一固体电极上的锚定层。聚电解质层化学键合 到该锚定层上。

另一实施方案展现了一种装置,其包括在基底上的第一固体电极、 在一部分第一固体电极上方的聚电解质层和在一部分聚电解质层上的 第二固体电极。在两个固体电极之间,聚电解质层具有小于约20纳米 的厚度。该装置可以包括位于第一固体电极上的锚定层,其中聚电解质 层化学键合到该锚定层上。

在上述装置的一些实施方案中,聚电解质层是聚电解质分子的大分 子单层。

在上述装置的一些实施方案中,所述层进一步包括金属阳离子、铵 阳离子、吡啶、胺、苯胺、吡啶衍生物或苯胺衍生物。

在上述装置的一些实施方案中,所述聚电解质层在两个固体电极之 间具有小于约12纳米的厚度。

在上述装置的一些实施方案中,所述层具有的导电性可通过跨过固 体电极施加电压来在相对高导电性和低导电性状态之间反复切换。

附图简述

图1是表现出记忆行为的双端电开关的截面图;

图2显示了图1的双端电开关的具体实施方案;

图3示意性显示了表现出记忆行为的双端电开关,例如图2中的电 开关的电流/电压(I/V)特性;

图4示意性显示了具有记忆行为的双端开关,例如图2中的电开关 的接通-状态I/V特性;

图5显示了具有记忆行为的电开关,例如图2中的电开关,在其中 的聚电解质层的各种化学处理后的I/V特性;

图6是显示表现出记忆行为的双端电开关,例如图1-2中的电开关 的操作方法的流程图;

图7是显示具有聚电解质沟道的双端电开关,例如图1和2中的电 开关的制造方法的流程图;且

图8显示了可用于制造图2的电开关的具体实施方案的荫罩结构的 布置。

在附图和文本中,类似参考数字表示具有类似功能的元件。

在附图中,一些元件的相对尺寸可能被放大以更清楚显示其中的一 个或多个结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卢森特技术有限公司,未经卢森特技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780032356.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top