[发明专利]用于通过APC控制策略来减少曝光场内的覆盖误差的方法及系统

权利要求书

1.一种减少覆盖误差的方法，包括：

产生微结构器件的第一器件层(186)及第二器件层(187)的多个不同 组合的覆盖修正数据(140)，该第一器件层(186)由一个或多个第一光掩 膜(181)界定，该第二器件层(187)由一个或多个第二光掩膜(182)界定， 该第一器件层(186)及第二器件层(187)通过使用多个光刻工具(183)而 形成，该覆盖补偿数据(140)代表从对于第一光掩膜与光刻工具的每一 组合以及对于第二光掩膜与光刻工具的每一组合的该第一光掩膜(181) 及第二光掩膜(182)内的第一多个测量位置(181a)得到的测量数据；

使用所述第一光掩膜(181)之一以及该多个光刻工具(183)之一在第 一产品衬底(180)上形成该第一器件层(186)；以及

使用该覆盖修正数据(140)以及从其上形成有该第一层及第二层的 先前被处理过的衬底的第二多个测量位置(185a)所得到的覆盖测量数 据(110)，将用于该多个光刻工具(183)之一的所述第二光掩膜(182)之一 对准到该第一产品衬底(184)上形成的该第一器件层(186)，该第二多个 测量位置(185a)少于该第一多个测量位置(181a)，

其中，产生该覆盖修正数据(140)包括：使用不同的光刻工具/光 掩膜对以形成该第一器件层及第二器件层的该多个不同组合，以及测 量每一组合的该第一多个测量位置中的每一个的覆盖数据。

2.如权利要求1所述的方法，其中，产生该覆盖修正数据(140)包 括：产生(142)该第一光掩膜(181)及第二光掩膜(182)中的每一个的各自 的放置数据组；以及产生(144)该多个光刻工具中的每一个的成像变形 数据组。

3.如权利要求2所述的方法，其中，产生(142)所述各自的放置数 据组包括：在该第一多个测量位置(181a、182a)中的每一个提供放置测 量标记。

4.如权利要求1所述的方法，其中，产生该覆盖修正数据(140)包 括：使用不同的光刻工具/光掩膜对以形成该第一器件层及第二器件 层的多个不同组合；以及测量每一组合的该第一多个测量位置中的每 一个的覆盖数据。

5.如权利要求1所述的方法，其中，该覆盖修正数据(140)确定被 用来作为控制该第二层的对准的被操纵变量的对准参数的目标值(130) 的偏移值。

6.一种减少覆盖误差的方法，包括：

界定用来形成微结构器件的第一器件层(186)以及与该第一器件层 对准的第二器件层(187)的多个光刻工具(183)/光罩(181、182)组合的 覆盖数据映像(140)，其中使用了所述光刻工具/光罩组合中的两个分 别的光刻工具/光罩组合，该映像(140)基于空间分布的第一多个测量 位置(181a、182a)；

从其上形成有该第一器件层(186)及第二器件层(187)的第一产品衬 底(180)得到覆盖测量数据(110)，其中从空间分布的第二多个测量位置 (185a)得到该覆盖测量数据(110)，该第二多个测量位置(185a)少于该第 一多个测量位置(181a、182a)；以及

根据覆盖数据的映像(140)以及该覆盖测量数据(110)，控制(130)该 第一器件层(186)与该第二器件层(187)间的对准，其中该第一器件层采 用包括用于该第一器件层(186)的光罩(181)的第一光刻工具/光罩组合 在第二产品衬底上形成，该第二器件层通过包括用于该第二器件层(187 的光罩(182)的第二光刻工具/光罩组合形成。

7.如权利要求6所述的方法，其中，界定该覆盖修正数据映像(140) 包括：根据比该第二多个测量位置(185a)提供了更高的空间覆盖度的 放置测量位置(181a、182a)，而确定该多个光刻工具/光罩组合中的每 一个光罩的放置数据(141)；以及确定所使用的每个光刻工具的透镜变 形特征记号(143)。

8.如权利要求7所述的方法，进一步包括：根据该放置数据而确 定所述光罩中的每一个的重合映像(142)。