[发明专利]一种制备聚合浮雕结构的方法

权利要求书

1.一种制备聚合浮雕结构的光压花方法，所述方法包括如下步骤：

a)采用含有一种或多种辐射敏感成分的涂料组合物涂敷基材；

b)采用具有周期性的或无规的辐射-强度图案的电磁辐射对经涂敷的 基材进行局部处理，形成潜在图像；

c)使所得经涂敷的基材聚合并且/或者交联，

其中，所述涂料组合物包含至少一种聚合物、至少一种单体、光引发剂、 可选的溶剂以及一种或多种用量相对于聚合物、单体和引发剂的共混物介 于0.5至20重量％之间的有机自由基清除剂的共混物，并且

其中，所述涂料组合物中氧的含量小于当所述涂料组合物与空气接触时存 在的氧的平衡量。

2.如权利要求1所述的光压花方法，其中，所述一种或多种有机自由 基清除剂的用量足以抑制/延缓经涂敷基材的未经处理区域的实际聚合，并 且用量足够低从而允许经处理区域在步骤c中发生聚合和/或交联。

3.如权利要求1或2所述的光压花方法，其中，步骤b)和c)被组 合在一起。

4.如权利要求1或2所述的光压花方法，其中，在步骤a和b之间除 去所述溶剂。

5.如权利要求1或2所述的光压花方法，其中，存在的所述有机自由 基清除剂选自酚、醌、自由基推拉性烯烃、硝酮、硝基化合物、亚硝基化 合物和过渡金属复合物。

6.如权利要求1或2所述的光压花方法，其中，所述有机自由基清除 剂在所述涂料组合物中的含量相对于含有聚合物、单体和引发剂的共混物 介于2和18重量％之间。