[发明专利]金属表面的化学保护

权利要求书

1.用于电化学单元的阳极，该阳极包含：

具有形成于其上的含氧层的金属材料；

形成于金属材料上的化学键合的保护层，该化学键合的保护层包 括D或P区前体与所述含氧层的反应产物，其中所述D或P区前体包 含具有式AR¹R²X的化合物，其中A选自磷或硼，X是卤素或含卤素化 合物，且R¹选自卤素、具有1-20个碳的烷基、含1-20个碳的烷氧基 或具有1-20个碳的芳基，R²选自卤素、具有1-20个碳的烷基、含1-20 个碳的烷氧基或具有1-20个碳的芳基，

或者所述D或P区前体包含具有式AR¹R²R³R⁴X的化合物，其中A 是磷，X是卤素或含卤素化合物，且R¹选自卤素、具有1-20个碳的烷 基、含1-20个碳的烷氧基、具有1-20个碳的芳基、或氧，R²选自卤 素、具有1-20个碳的烷基、含1-20个碳的烷氧基、具有1-20个碳的 芳基、或氧，R³选自卤素、具有1-20个碳的烷基、包含1-20个碳的 烷氧基、具有1-20个碳的芳基、或氧，R⁴选自卤素、具有1-20个碳 的烷基、包含1-20个碳的烷氧基、具有1-20个碳的芳基、或氧，

或者所述D或P区前体包含具有式SiR¹R²R³X的化合物，其中X是 卤素或含卤素化合物，且R¹选自氢、卤素、具有1-20个碳的烷基、 含1-20个碳的烷氧基或具有1-20个碳的芳基，R²选自氢、卤素、具 有1-20个碳的烷基、含1-20个碳的烷氧基或具有1-20个碳的芳基， R³选自氢、卤素、具有1-20个碳的烷基、含1-20个碳的烷氧基或具 有1-20个碳的芳基。

2.权利要求1的阳极，其中所述金属材料选自碱金属和碱土金 属。

3.权利要求1的阳极，其中所述金属材料包含锂。

4.权利要求1的阳极，其中所述卤素选自氯、溴、氟和碘。

5.权利要求1的阳极，其中所述烷基、烷氧基和芳基是氟化或部 分氟化的。

6.权利要求1的阳极，其中所述烷基是官能化的。

7.权利要求1的阳极，其中所述烷基选自甲基、乙基、正丙基、 异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、叔戊基、异辛基、叔辛 基、2-乙基己基、壬基、癸基、十一烷基、环戊基、环己基、环庚基、 环辛基、1-甲基环戊基、1-甲基环己基和1-甲基-4-异丙基环己基。

8.权利要求1的阳极，其中所述芳基选自：苯基，在对位、间位 或邻位具有烷基取代基的苯基，和多环芳族化合物。

9.电化学单元，其包含：

包括金属材料的阳极，所述金属材料具有形成于其上的含氧层；

阴极；

电解质；

所述阳极包括形成于金属材料上的化学键合的保护层，所述化学 键合的保护层包括D或P区前体与所述含氧层的反应产物，其中所述 D或P区前体包含具有式AR¹R²X的化合物，其中A选自磷或硼，X是卤 素或含卤素化合物，且R¹选自卤素、具有1-20个碳的烷基、含1-20 个碳的烷氧基或具有1-20个碳的芳基，R²选自卤素、具有1-20个碳 的烷基、含1-20个碳的烷氧基或具有1-20个碳的芳基，

或者所述D或P区前体包含具有式AR¹R²R³R⁴X的化合物，其中A 是磷，X是卤素或含卤素化合物，且R¹选自卤素、具有1-20个碳的烷 基、含1-20个碳的烷氧基、具有1-20个碳的芳基、或氧，R²选自卤 素、具有1-20个碳的烷基、含1-20个碳的烷氧基、具有1-20个碳的 芳基、或氧，R³选自卤素、具有1-20个碳的烷基、含1-20个碳的烷 氧基、具有1-20个碳的芳基、或氧，R⁴选自卤素、具有1-20个碳的 烷基、含1-20个碳的烷氧基、具有1-20个碳的芳基、或氧，

或者所述D或P区前体包含具有式SiR¹R²R³X的化合物，其中X是 卤素或含卤素化合物，且R¹选自氢、卤素、具有1-20个碳的烷基、 含1-20个碳的烷氧基或具有1-20个碳的芳基，R²选自氢、卤素、具 有1-20个碳的烷基、含1-20个碳的烷氧基或具有1-20个碳的芳基， R³选自氢、卤素、具有1-20个碳的烷基、含1-20个碳的烷氧基或具 有1-20个碳的芳基。