[发明专利]污染性评价方法、污染性评价装置、光学部件的制造方法、光学叠层体以及显示器产品

权利要求书

1.一种光学部件的污染性评价方法，其特征在于，

对光学部件照射光，检测在该光学部件上反射或透射的散射光，利 用由国际照明委员会即CIE规定的L*a*b*色彩模型来评价上述光学部件 的表面的污染程度。

2.根据权利要求1所述的光学部件的污染性评价方法，其特征在于， 上述光学部件的表面被人为地污染。

3.根据权利要求2所述的光学部件的污染性评价方法，其特征在于， 上述人为地污染是由于指纹附着引起的污染。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的光学部件的污染性评价方法， 其特征在于，

在评价了上述光学部件的表面的污染程度后，清洗该光学部件的表 面，并再次评价该光学部件的污染程度，由此来评价上述表面从污染的 恢复程度。

5.一种污染性评价装置，其特征在于，具有：

光学部件的设置台；

光源，其对设置在该设置台上的光学部件照射光；

积分球，其会聚在该光学部件上反射或透射的散射光；以及

散射光检测器，其检测会聚的散射光，利用由国际照明委员会即CIE 规定的L*a*b*色彩模型来评价上述光学部件的表面的污染程度。

6.一种光学部件的检查方法，其特征在于，具有以下的工序：

取得光学部件的工序；以及

在人为地污染了上述光学部件的表面后，对该光学部件照射光，检 测在该光学部件上反射或透射的散射光，利用由国际照明委员会即CIE规 定的L*a*b*色彩模型来评价上述光学部件的污染程度的检查工序。

7.根据权利要求6所述的光学部件的检查方法，其特征在于，

上述人为地污染是由于指纹附着引起的污染。

8.根据权利要求6或7所述的光学部件的检查方法，其特征在于，

在上述检查工序中，在评价了上述光学部件的表面的污染程度后， 清洗该光学部件的表面，并再次评价该光学部件的污染程度，由此来评 价上述表面从污染的恢复程度。

9.根据权利要求6或7所述的光学部件的检查方法，其特征在于，

上述光学部件是光学膜。

10.根据权利要求8所述的光学部件的检查方法，其特征在于，

上述光学部件是光学膜。

11.一种光学叠层体，其特征在于，

该光学叠层体在表面被人为地污染后的由国际照明委员会即CIE规 定的ΔE*ab、与之后实施了清洗处理后的由国际照明委员会即CIE规定的 ΔE*ab之差，即从污染的恢复程度在1.5以下，上述ΔE*ab表示色差。

12.根据权利要求11所述的光学叠层体，其特征在于，

该光学叠层体从污染的恢复程度在1.3以下。

13.一种光学叠层体，其特征在于，

该光学叠层体的抗污染性在3.5以下，上述抗污染性利用表面被人为 地污染后的由国际照明委员会即CIE规定的ΔE*ab来表示，上述ΔE*ab表 示色差。

14.根据权利要求13所述的光学叠层体，其特征在于，

该光学叠层体的抗污染性在2.5以下。

15.一种显示器产品，其特征在于，

该显示器产品具有权利要求11～14中任一项所述的光学叠层体。