[发明专利]用于从物品去除污物的清洁抹布及其制造方法无效
申请号: | 200780033770.4 | 申请日: | 2007-07-10 |
公开(公告)号: | CN101535042A | 公开(公告)日: | 2009-09-16 |
发明(设计)人: | 罗纳德·F·西曼德尔;斯科特·M·霍伦贝克 | 申请(专利权)人: | 巴布考克及威尔考克斯技术服务Y-12有限责任公司 |
主分类号: | B32B13/12 | 分类号: | B32B13/12;B32B15/08 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋 莉 |
地址: | 美国田*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 物品 去除 污物 清洁 抹布 及其 制造 方法 | ||
1.一种清洁抹布,包括:
具有本体和前表面的基质;和
设置在基质的前表面处的聚异丁烯,其中所述聚异丁烯的大部分具有 大于约30000的分子量。
2.权利要求1的清洁抹布,其中所述聚异丁烯的大部分具有在约30000 和140000之间的分子量。
3.权利要求1的清洁抹布,其中将所述聚异丁烯设置在所述基质的前 表面处并且还将所述聚异丁烯设置到所述基质的本体中。
4.权利要求3的清洁抹布,其中所述聚异丁烯具有重量并且所述清洁 抹布具有重量,且所述聚异丁烯的重量为所述清洁抹布重量的约0.5%~ 6%。
5.权利要求1的清洁抹布,其中将所述聚异丁烯设置在所述基质的前 表面处并且还将所述聚异丁烯设置到所述基质的本体的渗透部分中,并且 所述聚异丁烯具有重量,且所述基质的本体的渗透部分具有重量,并且所 述聚异丁烯的重量为所述聚异丁烯的重量和所述基质的本体的渗透部分重 量之和的约0.5%~6%。
6.权利要求1的清洁抹布,其中所述基质具有厚度且所述基质的本体 具有参照部分,所述本体的参照部分为所述基质中的到基质厚度的约第一 个1000微米深度的部分,并且所述聚异丁烯具有重量且所述本体的参照部 分具有重量,并且所述聚异丁烯的重量为所述聚异丁烯的重量和所述本体 的参照部分的重量之和的约0.5%~6%。
7.权利要求1的清洁抹布,其中所述基质具有厚度且所述基质的本体 具有参照部分,所述本体的参照部分为所述基质中的到基质厚度的约第一 个100微米深度的部分,并且所述聚异丁烯具有重量且所述本体的参照部 分具有重量,并且所述聚异丁烯的重量为所述聚异丁烯的重量和所述本体 的参照部分的重量之和的约0.5%~6%。
8.一种具有总干重的清洁抹布,所述清洁抹布包括:
(a)多孔基质,所述多孔基质拥有具有多个空隙的本体并且所述多孔基 质占了所述清洁抹布总干重的一个百分比,剩留干重的一个剩余百分比; 和
(b)设置在所述多个空隙的至少一部分内的聚异丁烯,所述聚异丁烯基 本上占所述清洁抹布的干重的全部剩余百分比。
9.权利要求8的清洁抹布,其中所述多孔基质具有前表面并且将基本 上所有的聚异丁烯设置在该前表面处。
10.权利要求8的清洁抹布,其中所述多个空隙基本上均匀地分布在整 个所述本体中并且所述聚异丁烯基本上均匀地分布在所述多个空隙中。
11.权利要求8的清洁抹布,其中所述聚异丁烯的大部分具有大于约 30000的分子量。
12.权利要求8的清洁抹布,其中所述多孔基质占所述清洁抹布的总干 重的约94%~99.5%。
13.权利要求8的清洁抹布,其中所述多孔基质占所述清洁抹布的总干 重的约6%~94%。
14.权利要求8的清洁抹布,其中所述多孔基质占所述清洁抹布的总干 重的约0.5%~6%。
15.制造清洁抹布的方法,所述方法包括:
(a)将分子量超过30000的聚异丁烯溶解在溶剂中制得约0.5重量%~约 6重量%聚异丁烯的增粘剂溶液;
(b)将所述增粘剂溶液涂布到基质上以制造预制品;和
(c)干燥所述预制品以形成所述清洁抹布。
16.权利要求15的制造清洁抹布的方法,其中步骤(a)包括将分子量超 过30000的聚异丁烯溶解在溶剂中以制得约0.5重量%~约1.5重量%聚异 丁烯的增粘剂溶液。
17.权利要求15的制造清洁抹布的方法,其中步骤(a)包括将分子量超 过30000的聚异丁烯溶解在溶剂中以制得约1.5重量%~约2.5重量%聚异 丁烯的增粘剂溶液。
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