[发明专利]真空处理装置

权利要求书

1、一种真空处理装置，其将皮尔斯式电子枪的电子束照射在收容于真空槽内的蒸发源中的蒸镀材料上，在与所述蒸发源对向的被处理基板上形成蒸镀膜，其特征在于，通过在所述电子束照射面的背侧的真空槽外配设磁铁装置，该磁体装置形成相对于所述电子束的入射方向大致垂直且相对于所述蒸发源的电子束照射面大致平行的磁场，从而使所述电子束向所述蒸发源的蒸发点偏向诱导。

2、如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，所述蒸发源是环形感应炉。

3、如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，所述蒸镀材料是金属、金属氧化物或绝缘物。

4、如权利要求3所述的真空处理装置，其特征在于，所述金属氧化物是作为等离子显示面板的保护膜使用的MgO或MgO复合材料。

5、如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，所述磁铁装置由永久磁铁构成。

6、如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，所述真空处理装置是至少具有储存/取出室和蒸镀室的两室，或储存室、蒸镀室和取出室的三室的串联式真空处理装置，以如下方式进行控制：所述皮尔斯式电子枪被固定在所述蒸镀室的与被处理基板的输送方向相对的侧壁面上，朝向相对于被处理基板的输送方向大致垂直的方向发出电子束。

7、如权利要求6所述的真空处理装置，其特征在于，通过皮尔斯式电子枪的摆动线圈产生的电子束的跳变形成两个以上的蒸发点。

8、如权利要求7所述的真空处理装置，其特征在于，通过所述皮尔斯式电子枪的摆动线圈使电子束前后或左右跳变。

9、如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，所述真空处理装置是至少具有储存/取出室和蒸镀室的两室，或储存室、蒸镀室和取出室的三室的串联式真空处理装置，以如下方式进行控制：所述皮尔斯式电子枪被固定在所述蒸镀室的与被处理基板的输送方向相对的正面或背面的壁面上，朝向相对于被处理基板的输送方向大致同方向发出电子束。

10、如权利要求9所述的真空处理装置，其特征在于，通过皮尔斯式电子枪的摆动线圈产生的电子束的跳变形成两个以上的蒸发点。

11、如权利要求10所述的真空处理装置，其特征在于，通过所述皮尔斯式电子枪的摆动线圈使电子束前后或左右跳变。