[发明专利]使用半曝光用正型感光性树脂层的透明性固化膜的制造方法

权利要求书

1.一种透明性固化膜的制造方法，该制造方法包括下述工序：在基材 上叠层曝光灵敏度不同的两层正型感光性树脂层、使得低灵敏度的正型感 光性树脂层位于所述基材与高灵敏度的正型感光性树脂层之间的工序，将 该叠层后的两层正型感光性树脂层进行曝光的工序，将该两层正型感光性 树脂层进行曝光后加热的工序，将该两层正型感光性树脂层进行显影的工 序，将该两层正型感光性树脂层进行后烘烤的工序，

其中，所述曝光是半曝光，

该透明性固化膜的制造方法的特征在于，该低灵敏度的正型感光性树 脂层是含有下述的(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的正型感光性树脂 层，

(A)成分为碱溶性树脂，

(B)成分为1分子中具有两个以上乙烯基醚基的化合物，

(C)成分为通过后烘烤与(A)成分进行交联反应的化合物，是1分子中 具有两个以上嵌段异氰酸酯基的化合物，

(D)成分为光产酸剂。

2.根据权利要求1所述的透明性固化膜的制造方法，所述曝光后加热 在温度80℃～140℃下进行，且所述后烘烤在温度150℃～270℃下进行。

3.根据权利要求1所述的透明性固化膜的制造方法，所述高灵敏度的 正型感光性树脂层是含有下述的(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的正 型感光性树脂层，

(A)成分为碱溶性树脂，

(B)成分为1分子中具有两个以上乙烯基醚基的化合物，

(C)成分为通过后烘烤与(A)成分进行交联反应的化合物，

(D)成分为光产酸剂。

4.根据权利要求1所述的透明性固化膜的制造方法，所述低灵敏度的 正型感光性树脂层中，基于100质量份(A)成分，含有1～80质量份所述(B) 成分、3～70质量份所述(C)成分和0.5～50质量份所述(D)成分。

5.根据权利要求1所述的透明性固化膜的制造方法，基材是形成了 TFT元件的基材。

6.一种TFT阵列平坦化膜，包括由权利要求1～4的任一项所述的制 造方法得到的透明性固化膜。

7.一种显示元件，具有由权利要求1～4的任一项所述的制造方法得 到的透明性固化膜。

8.一种液晶显示元件，具有由权利要求1～4的任一项所述的制造方 法得到的透明性固化膜。