[发明专利]在气室中带有第三级加热元件的焦炉

权利要求书

1.水平结构方式的焦炉，该焦炉为非回收型或热回收型，该焦炉包 括至少一个炉室、多个设置在炉室侧面的垂直的排气通道以及多个水平 地并在炉室下方设置的用于间接加热炉室的底部通道，其特征在于：在 焦炉的炉室的气室中设置一个或多个加热元件，所述气室在焦炉的按规 定的操作中不用于填充固体材料，所述气室通过加热元件划分成多个带 有成段地导气的段。

2.按权利要求1所述的焦炉，其特征在于：所述加热元件形成为悬 挂的肋或悬挂的壁，这些加热元件具有开口。

3.按权利要求1所述的焦炉，其特征在于：所述加热元件形成为悬 挂的肋或悬挂的壁，这些加热元件具有部分敞开的结构。

4.按权利要求1至3之一所述的焦炉，其特征在于：所述加热元件 能够可拆式地悬挂到合适的支座中，这些支座安装在炉室的壁和/或顶部 中。

5.按权利要求1至3之一所述的焦炉，其特征在于：在通过加热元 件成段地划分炉室的气室时，在这些段的每一个段中导入至少一个空气 导入件，并且从这些段的每一个段中引出一个或两个排气通道。

6.按权利要求1至3之一所述的焦炉，其特征在于：至少炉室的内 壁的一部分和/或加热元件表面的一部分构成为次级的加热表面，方式 为，它们涂布高发射涂层。

7.按权利要求6所述的焦炉，其特征在于：高发射涂层由材料Cr₂O₃或Fe₂O₃或由包含这两种材料的混合物构成，其中Fe₂O₃在混合物中的份 量至少为25(重量)％，Cr₂O₃在混合物中的份量至少为20(重量)％。

8.按权利要求7所述的焦炉，其特征在于：高发射涂层另外包含份 量至少为20(重量)％的SiC。

9.按权利要求7所述的焦炉，其特征在于：高发射涂层另外包含一 种或多种无机的粘合剂。

10.按权利要求6所述的焦炉，其特征在于：高发射涂层的内容物 质的颗粒大小小于或等于15μm。

11.按权利要求10所述的焦炉，其特征在于：高发射涂层的内容物 质的颗粒大小位于2.5μm至10μm之间。

12.按权利要求7至9之一所述的焦炉，其特征在于：在炉室下方 水平伸展的烟气通道的壁完全或部分涂布按一种上述材料组份的高发射 涂层。

13.制造焦炭的方法，采用一个或多个按权利要求1至12之一所述 的焦炉。

14.按权利要求13所述的方法，其特征在于：在1000～1400℃的平 均炉室温度中进行焦化。