[发明专利]用于监视介质状况的方法与设备有效
申请号: | 200780035102.5 | 申请日: | 2007-09-17 |
公开(公告)号: | CN101517399A | 公开(公告)日: | 2009-08-26 |
发明(设计)人: | J·万哈宁;M·林吉奥;P·图尔马;J·科尔皮-托莫拉;K·劳伯格;J·埃尔夫斯特罗姆 | 申请(专利权)人: | 莫文塔斯有限公司 |
主分类号: | G01N21/85 | 分类号: | G01N21/85 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李镇江 |
地址: | 芬兰于*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 监视 介质 状况 方法 设备 | ||
1.一种用于根据光的发送/发射来监视通道(33)中介质(50) 的状况的方法,其中
-光被引导通过由测量头(12)中的测量间隙(13.1)定义的介 质层,其中测量头(12)是从通道(33)的壁(30)中的开口(31) 推入的,
-测量通过介质层的光的强度或者与强度成比例的变量,及
-从强度的变化评估介质(50)的状况,
而且其中光是由光纤装置(18、18.1、18.2)引导到测量间隙(13.1) 并离开测量间隙(13.1)的,所述方法的特征在于,为测量所提供的 传感器(10)位于通道(33)外面并与通道(33)相邻,并且测量头 (12)延伸到通道(33)中,所述测量包括用于评估介质(50)的状 况的数值分析,
其中,所述介质(50)为油。
2.如权利要求1所述的方法,特征在于所述测量是利用两个不 同的测量间隙(13.1、13.2)执行的,因此测量两个强度,在这种情况 下介质(50)的状况是利用使用这些强度的所选数值分析方法来监视 的。
3.如权利要求2所述的方法,特征在于测量是利用在物理隔开 的测量间隙(13.1、13.2)中彼此有一定距离的两个不同光束进行的。
4.如权利要求1-3中任何一项所述的方法,特征在于至少一个 测量是针对反射光束的表面(22.1、22.2)进行的,以便将检测器(17.1、 17.2)定位到所测量的介质层的与光源(16)相同的一侧。
5.如权利要求2所述的方法,特征在于在测量中使用公共光源 (16),由该光源产生的光在两个测量之间分配。
6.如权利要求1所述的方法,特征在于除了发送/发射测量,还 测量介质(50)的介电性和/或电阻率。
7.如权利要求3所述的方法,特征在于测量间隙(13.1、13.2) 的距离之比是1∶1.5±50%。
8.如权利要求1所述的方法,特征在于光束的质量是利用透镜 系统(52)来均衡的,以便使传感器(10)的测量结果可以独立于光 纤装置(18、18.1、18.2)比较。
9.如权利要求1所述的方法,特征在于当介质(50)的属性变 化时,馈送到光源(16)的电流幅值增加。
10.如权利要求1所述的方法,特征在于光的波长在300nm- 600nm的范围内。
11.如权利要求10所述的方法,特征在于光的波长在400nm- 500nm的范围内。
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