[发明专利]闸阀

说明书

技术领域

本发明总地涉及一种闸阀，具体来说，涉及一种能够均匀地保持气密并同时最大可能地减小对气缸的依赖由此可均匀地分配压力的闸阀。

背景技术

在加工处理半导体晶片或液晶衬底的典型装置中，半导体晶片或液晶衬底通过真空腔室中的衬底传输通道，加载到各种处理腔室上或从这样腔室中卸载出来。为了打开和关闭该衬底传输通道，在该衬底传输通道上安装了闸阀。

如图1所示，现有代表性的闸阀适于以某种方式打开和关闭真空腔室1，使得形成在真空腔室一侧上的闸门2设置有具有尺寸对应于闸门尺寸的密封板33；多个垂直和水平气缸31和35安装成可水平和垂直地移动密封板33；每个垂直气缸31通过垂直杆32和支架34连接到对应的水平缸35；以及每个水平缸35与密封板33连接以便水平地和垂直地移动密封板33。

在现有闸阀的情形中，真空腔室中产生的真空负压对水平缸35施加很强的压力，此时，施加的压力必须均匀地分配到各个水平缸35。然而，现有闸阀具有压差的问题，即，在水平缸之间发生压力不平衡而破坏真空。

此外，现有闸阀还有另外一个问题，它因密封板的水平和垂直运动而具有复杂的结构，因此必须双重地控制这些气缸。

在图2所示闸阀40的情形中，密封板45直接连接到杆42，而该杆42连接到凸轮轴43。凸轮轴43可沿安装在气缸壳46内的凸轮44移动。因此，杆42的垂直运动能使密封板45沿倾斜方向移动，同时，凸轮轴43沿凸轮44的斜面移动，使得闸阀可以打开和关闭。

在此情形中，密封板也由气缸支承，由此气缸必须具有对应于真空压力的力。因此，气缸的容积相应地增加。此外，杆的垂直运动通过凸轮转化为斜向运动，由此分散气缸的压迫力。因此，气缸容积进一步增加。

连续反复的运动产生的误差造成真空腔室的气密性降低。

发明内容

因此，本发明致力于解决现有技术出现的各种问题，本发明的目的是提供这样一种闸阀，其能够均匀地保持气密性，同时，最大程度地减小对气缸的依赖性，因此，能均匀地分散压力。

为了达到所述目的，根据本发明的一个方面，提供一种闸阀，该闸阀安装在真空腔室内并调节衬底的加载和卸载。闸阀包括：支架，该支架围绕真空腔室的闸门并包括垂直地安装在闸门相对侧上的导向轨道；压迫构件，该压迫构件包括沿导向轨道上下移动的固定板；将固定板和密封板互连的至少一个轴销；安装在固定板内诸轴销之间的管子，该管子对密封板加力，使用膨胀力来调节闸门；气缸，其安装在支架的一侧并提升和下降压迫构件；以及导向构件，其将压迫构件的相对端互连，当压迫构件通过气缸上升和下降时，导向构件能使压迫构件的相对端执行同步操作。

根据本发明的另一方面，闸阀还包括弹簧，该弹簧配装在轴销周围，在固定板和密封板之间保持弹性力，并支承固定板和密封板。轴销对称地上下设置，使管子介于轴销之间。

根据本发明的另一方面，管子可选自以下横截面形状：多边形、圆形和椭圆形。此外，管子横截面可以部分地成波纹形。而且，管子呈循环轨道的形状安装在固定板内。

根据本发明的另一方面，闸阀还包括拉伸弹簧，该弹簧连接到固定板并与气缸同步。导向构件用链条和金属丝之一来将连固定板的相对端互连。

根据本发明，闸阀可均匀地保持气密性，同时，最大程度地减小对气缸的依赖性，因此，能均匀地分散压力。

附图说明

图1是示出现有闸阀的示意图；

图2是示出另一现有闸阀的示意图；

图3是示出根据本发明实施例的闸阀的立体图；

图4是示出图3闸阀的纵向截面图；

图5是示出图4的压迫构件的另一实例的局部立体图；

图6至8是显示根据本发明实施例的闸阀操作的视图；

图9是示出根据本发明另一实施例的闸阀的立体图；

图10和11是显示图9闸阀操作的视图。

具体实施方式

下面将参照附图来描述本发明的示范实施例。

如图3和4所示，闸阀100包括支架110、压迫构件120、导向构件130、气缸140以及密封板160。

支架110具有“口”形，其相对侧上垂直地设置有导向轨道112。这里，每个导向轨道112使用本技术领域内公知的线性运动(L/M)导向器，于是可省略对其的详细描述。

压迫构件120包括固定板121、多个轴销122、多个弹簧123、管子124和注气管125。