[发明专利]薄膜半导体元件及元件复合结构有效
申请号: | 200780036707.6 | 申请日: | 2007-07-16 |
公开(公告)号: | CN101542752A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
发明(设计)人: | S·赫尔曼;B·哈恩 | 申请(专利权)人: | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L27/15 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 汤春龙;刘春元 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 半导体 元件 复合 结构 | ||
1.一种薄膜半导体元件(1),具有:
-承载层(2),所述承载层(2)是箔,
-设置在所述承载层(2)上的层堆叠(8),所述层堆叠包含半导体材 料并用以发出辐射,以及
-在所述承载层(2)上施加的用以冷却所述薄膜半导体元件(1)的 散热层(3),
-其中所述散热层(3)设置在所述层堆叠(8)和所述承载层(2)之间 并且在所述层堆叠(8)的三面延伸超出所述层堆叠(8),
-其中所述散热层(3)形成为封闭平面,其中限制所述封闭平面的 侧边成曲线走向,其中所述散热层(3)具有内凹的侧边和与所述内凹的 侧边相对的外凸的侧边,以及
-所述层堆叠(8)被设置在所述内凹的侧边旁。
2.根据权利要求1的薄膜半导体元件(1),其中,所述散热层(3) 具有至少与所述层堆叠(8)的基面同样大的基面。
3.根据上述权利要求中任一项的薄膜半导体元件(1),其中,所 述散热层(3)的厚度(Dw)在1至2位数的微米范围内。
4.根据权利要求1或2的薄膜半导体元件(1),其中,所述承载 层(2)包含塑料。
5.根据权利要求1或2的薄膜半导体元件(1),其中,所述承载 层(2)具有第一子层(2a)和第二子层(2b)以及其中,所述第一子层(2a) 是施加在所述第二子层(2b)上的层以及所述第二子层(2b)是箔。
6.根据权利要求1或2的薄膜半导体元件(1),其中,所述承载 层(2)的厚度小于或等于100μm。
7.根据权利要求1或2的薄膜半导体元件(1),其中,在所述层 堆叠(8)的与所述承载层(2)相对的一侧上设置用于覆盖所述层堆叠(8) 的覆盖层(10)。
8.根据权利要求7的薄膜半导体元件(1),其中,所述覆盖层(10) 是箔。
9.根据权利要求7的薄膜半导体元件(1),其中,所述覆盖层(10) 包含透明材料。
10.根据权利要求7的薄膜半导体元件(1),其中,所述覆盖层(10) 具有光学结构。
11.根据权利要求10的薄膜半导体元件(1),其中,所述覆盖层 (10)被部分镜面化。
12.一种元件复合结构(13),该复合结构具有至少两个根据权利 要求1至11中任一项的薄膜半导体元件(1),其中,所述薄膜半导体 元件(1)具有共同的承载层(2)。
13.根据权利要求12的元件复合结构(13),其中,在所述承载层 (2)上在所述层堆叠(8)之间施加用于所述层堆叠(8)的释放侧电接触的 共同接触垫(12)。
14.根据权利要求12或13的元件复合结构(13),其中,所述薄 膜半导体元件(1)串联连接。
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