[发明专利]用含聚硫化物聚合物的混合物涂覆的粒子-基质组合物

权利要求书

1、一种包含粒子和基质的组合物，其中粒子至少部分被配混物或配混 物的混合物涂覆，该配混物包含以下组分中的至少一种：

a)聚硫化物聚合物和固化体系；和

b)从具有至少两个环氧端基的聚硫化物聚合物得到的固化的聚硫化 物聚合物。

2、权利要求1的组合物，其中粒子是纤维、纤条体、原纤、粉末或珠 粒。

3、权利要求1或2的组合物，其中聚硫化物聚合物是具有式A-B-C 的线性或支化化合物，其中B是独立地包含1-200个下式的重复单元的结 构部分：

-[X-R₂-X-R₁-S_x]-

其中

X独立地为CH₂、S或O；

x为2、3或4；

R₁和R₂独立地选自取代或未取代的具有1-10个碳原子的亚烷基、取 代或未取代的具有6-10个碳原子的亚芳基、具有1-5个碳原子的亚烷氧基 和具有2-10个碳原子的亚烷氧基亚烷基；其中取代基是独立地包含1-200 个下式的重复单元的结构部分：

D-[X-R₂-X-R₁-S_x]-E

其中X、R₁、R₂和x具有先前所给出的含义；

或者X、R₁和R₂独立地为键，条件是X-R₂-X-R₁结构部分含有至少2 个原子；

A和C独立地选自氢和含有卤素、环氧基、羟基、异氰酸酯基、甲硅 烷基和乙烯基中至少一种的基团；和

D和E之一为键且另一个具有与A相同的含义。

4、权利要求3的组合物，其中如果R₁和/或R₂的含义为取代的具有 1-10个碳原子的亚烷基，或取代的具有6-10个碳原子的亚芳基，其中取代 基是独立地包含1-200个式D-[X-R₂-X-R₁-S_x]-E重复单元的结构部分，在 所述重复单元中的基团R₁和R₂独立地选自具有1-10个碳原子的亚烷基、 具有6-10个碳原子的亚芳基、具有1-5个碳原子的亚烷氧基和具有2-10 个碳原子的亚烷氧基亚烷基。

5、权利要求3或4的组合物，其中聚硫化物聚合物A-B-C的基团A、 C、D和/或E为缩水甘油基或为通过使双酚A的二缩水甘油基醚或双酚F 的二缩水甘油基醚或者它们的树脂反应获得的基团，条件是D和E之一为 键且另一为H，并且A和C均为H。

6、权利要求1-5任一项的组合物，其中聚硫化物聚合物为以下聚合物 中的至少一种：

和

其中n独立地为1-200且R’为

其中m为0-10，R₃独立地为H或CH₃，且用双星号表示的末端结合 于环氧基团。

7、权利要求1-6任一项的组合物，其中涂层包含聚硫化物聚合物和固 化体系，其中固化体系选自氧化铅(IV)、氧化锰(IV)、低分子量酚醛树脂、 二异氰酸酯或多异氰酸酯、二环氧化物或多环氧化物、氢过氧化枯烯、过 氧化二枯基、过氧化钙、过氧化锌、高碘酸钠、高硼酸钠、过二硫酸四丁 铵、对醌二肟、碘、以及硫与聚硫化物的混合物。

8、权利要求7的组合物，其中固化体系是硫与下式的聚硫化物的混合 物，

其中n＝2-6；

R独立地选自氢、卤素、硝基、羟基、C₁-C₁₂烷基、C₁-C₁₂烷氧基、 和C₇-C₁₂芳烷基。