[发明专利]光学层叠体、偏振板、图像显示装置和光学层叠体的制造方法

权利要求书

1.一种光学层叠体，其特征在于，其具有：

相位差层(A)，其含有具有-SO₃M基和-COOM基中至少任一者的多环式化合物(其中，M表示抗衡离子)，且折射率椭球体满足nx≥nz>ny的关系；和

相位差层(B)，其折射率椭球体满足nx≥ny>nz的关系。

2.根据权利要求1所述的光学层叠体，前述多环式化合物包括下式(I)所示的化合物，

式(I)中，M表示抗衡离子，k、1、m和n表示取代数(k和1为0～4的整数，m和n为0～6的整数)，其中，k、l、m和n不同时为0。

3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，前述相位差层(B)含有非水溶性的聚合物。

4.根据权利要求3所述的光学层叠体，前述非水溶性的聚合物为选自酰亚胺系聚合物、酯系聚合物和酰胺系聚合物中的至少1种热塑性聚合物。

5.根据权利要求1～4任一项所述的光学层叠体，前述光学层叠体的厚度为0.2～10μm。

6.根据权利要求1～5任一项所述的光学层叠体，前述相位差层(A)的波长590nm下的面内的双折射率(Δn_xy[590])为0.01以上，

其中，Δn_xy＝nx-ny，nx表示相位差层(A)的面内的折射率最大的方向(X轴方向)的折射率，ny表示在同一面内相对于X轴方向垂直的方向(Y轴方向)的折射率。

7.根据权利要求1～6任一项所述的光学层叠体，前述相位差层(A)的Nz系数为0.1～0.9。

8.根据权利要求1～7任一项所述的光学层叠体，前述相位差层(B)的波长590nm下的厚度方向的双折射率(Δn_xz[590])为0.01以上，

其中，Δn_xz＝nx-nz，nx表示相位差层(B)的面内的折射率最大的方向(X轴方向)的折射率，nz表示与相位差层(B)的面垂直的方向的折射率。

9.根据权利要求1～8任一项所述的光学层叠体，前述相位差层(B)的Nz系数为1.1～8.0。

10.一种偏振板，其具有权利要求1～9任一项所述的光学层叠体和偏振片。

11.一种图像显示装置，其具有权利要求1～9任一项所述的光学层叠体或权利要求10所述的偏振板。

12.一种光学层叠体的制造方法，其特征在于，其包括：

工序A，将具有-SO₃M基和-COOM基中至少任一者的多环式化合物(其中，M表示抗衡离子)溶解于水系溶剂，调制显示液晶相的溶液；和

工序B，调制含有非水溶性的聚合物和有机溶剂的溶液，

且具有：

工序C，将工序B中得到的溶液涂敷到基材上，并形成折射率椭球体满足nx≥ny>nz的关系的相位差层(B)，

工序D，对该相位差层(B)的表面实施亲水化处理后，涂敷工序A中得到的溶液，形成折射率椭球体满足nx≥nz>ny的关系的相位差层(A)。

13.一种光学层叠体的制造方法，其特征在于，其包括：

工序A，将具有-SO₃M基和-COOM基中至少任一者的多环式化合物(其中，M表示抗衡离子)溶解于水系溶剂，调制显示液晶相的溶液；和

工序B，调制含有非水溶性的聚合物和有机溶剂的溶液，

且具有：

工序E，将工序A中得到的溶液涂敷到基材上，并形成折射率椭球体满足nx≥nz>ny的关系的相位差层(A)，

工序F，在该相位差层(A)的表面涂敷工序B中得到的溶液，形成折射率椭球体满足nx≥ny>nz的关系的相位差层(B)。

14.根据权利要求12或13所述的光学层叠体的制造方法，前述多环式化合物包括下式(I)所示的化合物，

式(I)中，M表示抗衡离子，k、l、m和n表示取代数(k和l为0～4的整数，m和n为0～6的整数)，其中，k、l、m和n不同时为0。