[发明专利]前体输送系统

权利要求书

1.一种化学反应物源器具，包括：

器具本体，其限定内部腔室，该内部腔室适于容纳固体或液体化 学反应物，其中所述器具本体包括入口和出口，且其中所述腔室包括 曲折路径，所述曲折路径被配置为包含所述化学反应物，所述曲折路 径从所述入口延伸到所述出口；

通道，其在所述器具本体内，所述通道从所述器具本体的外部延 伸到所述腔室；和

阀门，其直接附连到所述器具本体的表面并被配置为调节经过所 述通道的流动。

2.如权利要求1所述的器具，其中所述阀门被连接到所述器具 本体的所述表面且所述阀门与所述器具本体的所述表面之间没有任 何管道。

3.如权利要求1所述的器具，其中所述阀门至少部分地与所述 器具本体整体成形。

4.如权利要求1所述的器具，其中所述阀门包括：

阀门节流块，其安装到所述器具本体或与所述器具本体整体成 形，所述节流块限定阀座并包括限定所述通道的内部气流管道，所述 气流管道与所述阀座流体连通；和

可移动的限流器，其适于阻挡气流穿过所述阀座。

5.如权利要求1所述的器具，其中所述器具本体包括：

容器本体；和

器具盖，其适于接合所述本体以限定二者之间的所述腔室，所述 通道在所述盖之内，所述阀门直接附连到所述盖。

6.如权利要求1所述的器具，其进一步包括在所述腔室内的蛇 形插入物，所述蛇形插入物限定所述曲折路径。

7.如权利要求1所述的器具，其进一步包括在所述腔室内的托 盘的组，所述托盘共同限定包括所述曲折路径的至少一部分的螺旋气 流路径。

8.如权利要求5所述的器具，其中所述曲折路径被机械加工成 所述容器本体或所述器具盖。

9.一种用于衬底蒸汽处理的气相反应器的气体输送系统，包括：

气相反应腔室，其用于处理衬底；

器具，其适于容纳固体或液体化学反应物；入口阀门，其连接到 所述器具的大致平坦表面；出口阀门，其连接到所述器具的所述大致 平坦表面；曲折气流路径，其从所述入口阀门穿过所述器具达到所述 出口阀门，所述曲折气流路径被配置为传送气体从而接触容纳在所述 器具内的固体或液体化学反应物；和

多个气体面板阀门，其包括在所述出口阀门下游并流动地插入在 所述出口阀门与所述反应腔室之间的至少一个阀门；

其中每个所述气体面板阀门沿着大致平行于所述器具的所述平 坦表面的平面放置，所述平面与所述器具的所述平坦表面之间的距离 不超过大约10.0cm。

10.如权利要求9所述的气体输送系统，其进一步包括：

通风阀门，其连接到所述器具的所述平坦表面并沿着所述平面定 位，所述通风阀门与所述气流路径流体连通；和

蒸汽排出部件，其在所述反应腔室的下游；

一个或多个管道，用于从所述通风阀门输送气流到所述排出部 件，而不使其流过所述气体面板阀门或所述反应腔室。

11.一种化学反应物源器具，包括：

容器，其限定适于容纳固体或液体化学反应物的内部腔室，所述 容器的壁具有从所述容器外部延伸到所述腔室的通道，其中所述容器 包括入口和出口，且其中所述腔室包括曲折路径，所述曲折路径被配 置为包含所述化学反应物，所述曲折路径从所述入口延伸到所述出 口；

阀门，其附连到所述壁，所述阀门适于调节通过所述通道进入和 来自所述腔室的气流；和

过滤器，其在所述壁中，所述过滤器适于阻止微粒物质流过所述 通道。

12.如权利要求11所述的器具，其中所述阀门至少部分地与所 述壁整体成形。

13.如权利要求11所述的器具，其中所述容器包括容器本体和 适于接合所述容器本体的盖，从而在所述盖与所述本体之间限定所述 腔室，所述壁包括所述盖的一部分。