[发明专利]超疏水涂层无效
申请号: | 200780037824.4 | 申请日: | 2007-11-08 |
公开(公告)号: | CN101522822A | 公开(公告)日: | 2009-09-02 |
发明(设计)人: | O·明格;P·巴尔;S·德利卡 | 申请(专利权)人: | 瓦克化学有限公司 |
主分类号: | C09D4/00 | 分类号: | C09D4/00 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 | 代理人: | 程 伟 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 疏水 涂层 | ||
1、一种涂层体系,其包含可通过如下物质的自由基聚合获得的有机硅 共聚物(O):
A)烯键式不饱和单体,其选自(甲基)丙烯酸酯、乙烯酯、芳乙烯、 烯烃、1,3-二烯或乙烯醚,和
B)单-或多烯键式不饱和聚有机硅氧烷,和
C)任选的烯键式不饱和辅助单体,和
亲水性粒子(P)。
2、根据权利要求1所述的涂层体系,其中所述单体选自乙酸乙烯酯、 具有9至11个碳原子的α-支化的单羧酸的乙烯酯、氯乙烯、乙烯、丙 烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸 丙酯、甲基丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、丙烯酸 2-乙基己酯、苯乙烯或1,3-丁二烯。
3、根据权利要求1或2所述的涂层体系,其中所述单-或多烯键式不饱 和聚有机硅氧烷B)具有通式[1]:
(SiO4/2)k(R1SiO3/2)m(R12SiO2/2)p(R13SiO1/2)q[O1/2SiR32-L-X]s[O1/2H]t [1]
其中
L表示二价的任选取代的芳族、杂芳族或脂族基团(CR42)b,
R1、R3、R4每一个表示氢原子或一价的任选由-CN-、-NCO-、-NR22-、 -COOH-、-COOR2-、-PO(OR2)2-、-卤素-、-丙烯酰基-、-环氧基-、 -SH-、-OH-或-CONR22-取代的C1-C20烃基或C1-C20烷氧基,其中在 每种情况下一个或多个相互不相邻的亚甲基单元可由基团-O-、-CO-、 -COO-、-OCO-或-OCOO-、-S-或-NR2-替代且在每种情况下一个或 多个相互不相邻的次甲基单元可由基团-N=、-N=N-或-P=替代,
X表示烯键式不饱和基团,
R2表示氢或一价的任选取代的烃基,
b表示0或整数值,
s表示至少为1的整数值,
t表示0或整数值,
k+m+p+q表示至少为2的整数值。
4、根据权利要求3所述的涂层体系,其中k和m每一个表示0且q 表示0或1。
5、根据权利要求1至4所述的涂层体系,其中每100重量份烯键式不 饱和单体A)、B)和C)使用至少50重量份的单体A)。
6、根据权利要求1至5所述的涂层体系,其中每100重量份烯键式不 饱和单体A)、B)和C)使用1至50重量份的单体B)。
7、根据权利要求1至6所述的涂层体系,其中所述粒子(P)选自亲 水性氧化硅或金属铝、钛、锆、钽、钨、铪、锌或锡的金属氧化物MO。
8、根据权利要求1至7所述的涂层体系,其中聚合物(O)/粒子(P) 的质量比为10/1至10/8。
9、一种制备权利要求1至8所述的涂层体系的方法,该方法包含将粒 子(P)掺入聚合物(O)的溶液或分散体。
10、根据权利要求1至8所述的涂层体系在疏水涂层的制造中的用途。
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