[发明专利]在旋转表面上打印有效

专利信息
申请号: 200780038235.8 申请日: 2007-10-12
公开(公告)号: CN101522429A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 理查德·J·贝克;爱德华·T·克鲁斯希尔 申请(专利权)人: 富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司
主分类号: B41J29/38 分类号: B41J29/38;B41J23/00;B41J3/00;B41J2/01
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 美国新罕*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 旋转 表面上 打印
【说明书】:

优先权主张 

本申请主张于2006年10月13日提出的美国临时申请No.60/829,496的利益,其内容引用结合于此。 

背景技术

液滴喷射装置用于沉积液滴在基板上。喷墨打印机为液体喷射装置类型。喷墨打印机通常包含墨源到喷嘴路径。喷嘴路径终止于喷嘴开口内,其中墨滴从该喷嘴开口喷射。墨滴喷射是使用致动器对墨路径内的墨施压而被控制,该致动器可以是例如压电偏转器、热气泡射流发生器或者静电偏转元件。典型的打印头具有墨路径的阵列,该路径具有相应的喷嘴开口和关联的致动器,使得来自每个喷嘴开口的液体喷射可以独立地控制。在典型的按需喷墨(drop-on-demand)打印头中,每个致动器在打印头和打印基板彼此相对移动时被激励以选择性喷射液滴在图像的特定像素位置。在一些高性能打印头中,喷嘴开口通常直径为50微米以下例如约35微米,按照100至300喷嘴/英寸的节距分隔,分辨率为100至3000dpi以上,并提供约1至70皮升以下的液滴大小。液滴喷射频率可以为10kHz以上。 

发明内容

本发明总体上涉及在移动表面上打印。在一方面,打印系统包含:台板,沿非直路径(例如,通过台板围绕旋转轴旋转)移动基板且配置成支持基板;以及打印头,配置成当该基板沿着该非直路径移动时在该基板上沉积图像的液滴。 

在另一方面,打印系统具有:打印头,用于沉积液滴;台板,支持基板且相对于该打印头按照圆形运动绕轴旋转该基板,该打印头布置成沿与旋转轴平行的方向沉积液滴;以及成像系统,格式化图像数据以应对该基板的圆形运动,并发送指令到该打印头以基于格式化的图像数据来沉积液滴在该基板上。 

实施方案可包含一个或多个下述特征。该打印头可以是喷墨打印头。该打印系统可包含多个打印头(例如,四个打印头,青、品红、黄和黑每种墨色一个打印头)。该系统可包含用于沉积涂层在该基板的表面上的打印头,或者用于固化该基板上的液滴的固化布置。该系统可具有包含用于保持该基板的腔体的台板、当该基板置于该腔体内时上升高于该台板的表面的触发器。该系统可包含位于该台板上的键(例如,条形码)以及读取存储在该键上的信息(例如,用于该旋转台板的设置参数)的读取器,该读取器发送该信息到该成像系统。该台板可由适形到该基板的形状的可成型材料制成,该台板可支持多个基板。该台板可结合到传送器,该传送器相对于该打印头移动。还可具有结合到该传送器的多个台板。 

在一方面,一种打印方法包含:按照圆形运动绕轴旋转位于台板上的基板;格式化图像数据以应对该基板的该圆形运动;以及基于格式化的图像数据,使用打印头沿与旋转轴平行的方向沉积液滴以打印图像在该基板上。 

实施方案可包含一个或多个下述特征。格式化该图像数据可包含将该图像数据转换成位图光栅数据,应用弧形处理,应用梯度掩模处理,或者将该图像数据分离成青色、品红色、黄色和黑色。该方法还可包含发送格式化的图像数据到该打印头,固化该基板上的液滴,或者检测该台板内的该基板以及在检测到该基板时致使该打印头沉积液滴。键可存储有关该台板的信息,该方法可包含读取该键上的该信息并发送该信息到成像系统。该方法还可包含存储图像数据于成像系统。图像可由点组成,在一次回转之后具有特定图像分辨率,且该方法还可包含通过相对于该台板移动该打印头以及在第一次回转之后的点之间的空间内打印点来增加图像分辨率。 

特定实施方案可具有一个或多个下述优点。需要更少的打印头来打印更高分辨率,因为基板可以在相同打印头下方旋转多次以提高分辨率。该台板可用于在少量基板(例如,定制产品)或者少于完整台板上打印。设置时间最小化。打印系统可以在同一台板内的不同基板上打印。在打印头下方旋转基板可以快于一些传统打印方法,特别是对于小的物件。 

其它方面、特征和优点将从下述详细描述、附图及权利要求而变得显而易见。 

附图说明

图1描述具有旋转台板的打印系统的透视图。 

图2描述打印系统的俯视图。 

图3描述包含具有键的旋转台板和键读取器的打印系统。 

图4为打印之前图像数据处理的流程图。 

图4A描述用于打印在基板上的图像数据。 

图4B描述在弧形处理之后的格式化图像数据。 

图4C描述当打印在旋转台板上时图像鲜明度(boldness)的变化。 

图4D描述用于梯度掩模处理的白点随机矩阵。 

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