[发明专利]光学治疗系统及用于该系统的调整元件

权利要求书

1.一种光学治疗系统，包括：

-具有第一光学窗口(20)的机壳(10)，

-在所述机壳(10)内用于提供光辐射的光源(14)，

-控制单元(18)，用于控制所述光源(14)使得所述系统能够 在所述第一光学窗口(20)提供光辐射，该光辐射的至少一个光学 参数具有预先确定的第一值，以及

-至少一个光辐射发射调整元件(30)与第二光学窗口(34)的 组件，所述调整元件(30)可相对于所述光源(14)布置，使得所 述光辐射的至少一部分能够经由所述第二光学窗口(34)而发射，

其特征在于：所述系统还包括光学参数控制装置(36，38；42； 46，48，50；52；54)，该光学参数控制装置被安排用于控制所述 至少一个光学参数以在所述第二光学窗口(34)具有预先确定的第 二值。

2.如权利要求1的光学治疗系统，其中所述光学参数控制装置 (36，38；42；46，48，50；52；54)被安排用于根据所述第二光 学窗口(34)和/或调整元件(30)的形状和尺寸中的至少一个来控 制所述光学参数。

3.如权利要求1的光学治疗系统，其中所述光学参数包括所述 光辐射的光谱、强度和通量中的至少一个，并且优选的是强度。

4.如权利要求1的光学治疗系统，其中所述第二值基本上等于 所述第一值。

5.如权利要求1的光学治疗系统，其中所述光学参数控制装置 包括标识装置(36，38)，其能够与所述控制单元(18)协同操作； 或者包括探测器装置(38)，其被安排用于探测所述调整元件(30) 的存在，并且优选地探测所述调整元件(30)的类型。

6.如权利要求1的光学治疗系统，其中所述光学参数控制装置 包括被动辐射影响装置(46，48，50；52；54)，其被安排用于操 纵由所述光源(14)发射的光辐射，或者用于操纵通过所述第一光 学窗口(20)发射的光辐射。

7.如权利要求1的光学治疗系统，其中所述调整元件(30)包 括至少一个光学器件(34；46，48；54)。

8.如权利要求7的光学治疗系统，其中所述光学器件包括滤光 器(48；54)，或具有部分反射性和/或吸收性的涂层(48)的承载 件(46)。

9.如权利要求1的光学治疗系统，其中所述调整元件(30)包 括至少一个光导(42)，优选地是一束光纤(44)，其直径朝向所 述第二光学窗口(34)减小。

10.如权利要求1的光学治疗系统，其中所述系统包括冷却装置 (60，62；64，66，68，70)，其被安排用于为所述调整元件(30) 散热。

11.如权利要求1的光学治疗系统，其中所述冷却装置包括所述 调整元件(30)中的冷却剂通道(62；64)，用于流动冷却剂，或 者所述调整元件(30)内部空间中的气流(60)。

12.一种调整元件(30)，用于在根据前述任一权利要求的光学 治疗系统中使用。