[发明专利]用于界面设计的受控环境系统有效
申请号: | 200780040213.5 | 申请日: | 2007-08-28 |
公开(公告)号: | CN101529556A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
发明(设计)人: | 约翰·博伊德;耶兹迪·多尔迪;蒂鲁吉拉伯利·阿鲁娜;班杰明·W·莫琳;约翰·帕克斯;威廉·蒂;弗里茨·C·雷德克;阿瑟·M·霍瓦尔德;艾伦·舍普;戴维·默梅克 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/20 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余 刚;吴孟秋 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 界面设计 受控 环境系统 | ||
1.一种用于处理衬底的组合体系结构,包括:
与一个或多个衬底湿式处理模块耦合的实验室环境受控 传输模块,设置所述实验室环境受控传输模块和所述一个或多 个衬底湿式处理模块以管理第一周围环境,以及利用以干进干 出顺序处理衬底的末端执行器激活与该一个或多个衬底湿式 处理模块界面;
与所述实验室环境受控传输模块和一个或多个等离子体 处理模块耦合的真空传输模块,设置所述真空传输模块和所述 一个或多个等离子体处理模块以管理第二周围环境;和
与所述真空传输模块和一个或多个环境处理模块耦合的 受控环境传输模块,设置所述受控环境模块和所述一个或多个 环境处理模块以管理第三周围环境;
其中所述组合体系结构能够在所述第一、第二或第三周 围环境下可控地处理所述衬底,其中该第一、第二和第三周围 环境与该组合体系结构外的非受控清洁室环境隔开。
2.如权利要求1所述的组合体系结构,其中所述第三周围环境是 基本无氧的惰性环境。
3.如权利要求1所述的组合体系结构,其中所述第一周围环境是 基本无氧的惰性环境。
4.如权利要求1所述的组合体系结构,其中所述第二周围环境可 以被设定在真空内。
5.如权利要求1所述的组合体系结构,其中所述第一、第二和第 三环境与所述组合体系结构的外部非受控洁净室环境隔离。
6.如权利要求1所述的组合体系结构,其中所述一个或多个环境 处理模块包括金属镀层系统。
7.如权利要求6所述的组合体系结构,其中所述金属镀层系统包 括电镀和无电镀系统。
8.如权利要求1所述的组合体系结构,进一步包括
可连接所述实验室环境受控传输模块和所述真空传输模 块的第一装载锁;和
可连接所述真空传输模块和所述受控环境传输模块的第 二装载锁。
9.如权利要求1所述的组合体系结构,其中与所述一个或多个衬 底湿式处理模块的接口由处理干进干出次序中衬底的终端执 行机构激活。
10.如权利要求9所述的组合体系结构,其中邻近头系统为衬底湿 式处理模块。
11.如权利要求9所述的组合体系结构,其中非牛顿流体用在所述 衬底湿式处理模块之一中。
12.如权利要求1所述的组合体系结构,其中擦刷系统用于衬底湿 式处理模块。
13.如权利要求1所述的组合体系结构,其中所述实验室环境受控 传输模块由具有用于将衬底移入和移出所述一个或多个衬底 湿式处理模块的轨道和终端执行机构的拉伸模块形成。
14.一种用于处理衬底的组合体系结构,包括:
与一个或多个衬底湿式处理模块耦合的实验室环境受控 传输模块,设置所述实验室环境受控传输模块和所述一个或多 个衬底湿式处理模块以管理第一周围环境;
与所述实验室环境受控传输模块和一个或多个等离子体 处理模块耦合的真空传输模块,设置所述真空传输模块和所述 一个或多个等离子体处理模块以管理第二周围环境;和 与所述真空传输模块和一个或多个环境处理模块耦合的 受控环境传输模块,设置所述受控环境模块和所述一个或多个 环境处理模块以管理第三周围环境;
其中所述组合体系结构能够在所述第一、第二或第三周 围环境下可控地处理所述衬底,其中所述第一、第二和第三周 围环境由槽阀和装载锁所隔开,当通过所述装载锁提供所述衬 底转换时,所述槽阀限定所述周围环境间的隔离,其中在不将 所述衬底暴露于所述组合体系结构的外部氧环境的情况下,在 所述组合体系结构内部可以执行干法等离子体处理和湿式处 理。
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