[发明专利]感光性树脂组合物、感光性转印材料、像素隔离件及其形成方法、带像素隔离件的基板、滤色器及其制造方法以及显示装置

权利要求书

1.一种感光性树脂组合物，其含有引发剂、烯属性不饱和化合物以 及含氟化合物，在150℃下保持30分钟时的所述含氟化合物的热减少率 为30质量％以下，

所述含氟化合物含有在侧链具有氟原子的重复单元和下述通式(1) 表示的重复单元，

通式(1)中，R¹表示氢原子或碳原子数为1～5的烷基；R²表示氢 原子、碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为6～10的芳基或碳原子数为 2～5的烷酰基；L¹表示单键或2价的有机连接基团；X表示氯原子、溴 原子或碘原子；Y表示亚芳基、2价的杂环残基、羰基或氧基羰基。

2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述含 氟化合物含有在侧链具有氟原子的重复单元，主链结构具有丙烯基连接 链。

3.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述在 侧链具有氟原子的重复单元具有3个以上氟原子。

4.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述通 式(1)表示的重复单元是下述通式(2)表示的重复单元，

通式(2)中，R¹表示氢原子或碳原子数为1～5的烷基；R²表示氢 原子、碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为6～10的芳基或碳原子数为 2～5的烷酰基；Z¹表示酯基或酰胺基；L²表示单键或2价的有机连接基 团；X表示氯原子、溴原子或碘原子；Y表示亚芳基、2价的杂环残基、 羰基或氧基羰基。

5.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述通 式(1)表示的重复单元是下述通式(3)表示的重复单元，

通式(3)中，R¹表示氢原子或碳原子数为1～5的烷基；R²表示氢 原子、碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为6～10的芳基或碳原子数为 2～5的烷酰基；Z²表示单键、亚芳基或2价的杂环残基；X表示氯原子、 溴原子或碘原子；Y表示亚芳基、2价的杂环残基、羰基或氧基羰基。

6.根据权利要求2所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述在 侧链具有氟原子的重复单元是具有碳原子数为4～7的氟代烷基的重复单 元。

7.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述通 式(1)中的L¹是含有酯键和酰胺键中的至少1种的2价有机连接基团。

8.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述通 式(1)中的L¹是单键、亚芳基或2价的杂环残基。

9.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述含 氟化合物还含有具有酸性基的重复单元。

10.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，所述含 氟化合物的相对于总固体成分质量的含量为0.1质量％～10质量％。

11.一种感光性转印材料，其在临时支撑体上具有采用了权利要求1 所述的感光性树脂组合物的感光性树脂层。

12.一种像素隔离件的形成方法，其包括：

用权利要求1～权利要求10中任一项所述的感光性树脂组合物或权 利要求11所述的感光性转印材料来形成感光性树脂层；

将所述感光性树脂层曝光；

将已曝光的所述感光性树脂层显影；以及

将通过所述显影得到的图案图像加热处理。

13.一种像素隔离件，其用权利要求12所述的像素隔离件的形成方 法来形成。

14.一种带像素隔离件的基板，其具有基板和在该基板上用权利要求 12所述的像素隔离件的形成方法而形成的像素隔离件。