[发明专利]涂覆基材表面的方法和经过涂覆的产品有效
申请号: | 200780040963.2 | 申请日: | 2007-10-12 |
公开(公告)号: | CN101730757A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | S·齐默尔曼;S·A·米勒;L·N·谢克特 | 申请(专利权)人: | H.C.施塔克有限公司 |
主分类号: | C23C24/04 | 分类号: | C23C24/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 顾敏 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基材 表面 方法 经过 产品 | ||
1.一种向表面施加涂层的方法,其中,气流与选自下组的材料的粉末形成气 体-粉末混合物:铌、钽、钛、锆、或者它们中的至少两种的混合物、或者它们 中至少两种的合金、或者铌、钽、钛和/或锆与其它金属的合金,所述粉末的 粒度为0.5-150μm,氧含量小于500ppm,氢含量小于500ppm,其中,使所 述气流具有超音速,将该超音速的射流导向物体的表面。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,加入所述气体中的粉末的量确 保颗粒的流量密度为0.01-200g/s cm2。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述喷涂包括以下步骤:
-提供与待喷涂涂覆表面相邻的喷射口;
-向喷射口提供微粒材料的粉末,所述微粒材料选自铌、钽、钛、锆、它们 中的至少两种的混合物、或者它们相互之间的合金、或者铌、钽、钛和/或锆 与其它金属的合金,所述粉末的粒度为0.5-150μm,氧含量小于500ppm,氢 含量小于500ppm,所述粉末处于压力下;
-在压力下向喷射口提供惰性气体,以在喷射口处形成静压,并在待涂覆表 面上提供所述微粒材料和气体的射流;以及
-将喷射口设置于小于1个大气压、并且明显小于喷射口处的静压的环境压 区域中,以充分加速待涂覆表面上的所述微粒材料和气体的射流。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述喷涂用冷喷枪和待涂覆靶 进行,所述冷喷枪设置于压力小于80kPa。
5.如前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,气体-粉末混合物中 粉末的速度为300-2000m/s。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述撞击在物体表面上的粉末 颗粒形成涂层。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述粉末的粒度为10-50μm。
8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述粉末中的气体杂质的含量 以重量计为10-1000ppm。
9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述粉末的氧含量小于300ppm。
10.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述粉末的氢含量小于 300ppm。
11.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述施加的涂层的氧含量小 于500ppm,氢含量小于500ppm。
12.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述施加的涂层的气体杂质 含量与初始粉末中的气体杂质含量的偏差不超过50%。
13.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述施加的涂层的气体杂质 含量与初始粉末中的气体杂质含量的偏差不超过20%。
14.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述施加的涂层的氧含量和 氢含量与初始粉末中的氧含量和氢含量的偏差不超过5%。
15.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述施加的涂层的氧含量不 超过300ppm,所述施加的涂层的氢含量不超过300ppm。
16.如权利要求1所述的方法,其特征在于,施加的金属涂层包含钽或铌。
17.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述涂层的厚度为 10μm-10mm。
18.如权利要求1所述的方法,其特征在于,通过在待涂覆物体表面上冷 喷涂来施加层。
19.选自下组的材料的粉末在权利要求1-18中任一项所述的方法中的应 用:铌、钽、钛、锆、或者它们中的至少两种的混合物、或者它们中至少两种 的合金、或者铌、钽、钛和/或锆与其它金属的合金,所述粉末的粒度为150μm 或更小,氧含量小于500ppm,氢含量小于500ppm。
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