[发明专利]通用拌和型颜料

权利要求书

1.颜料制剂，其含有

(a)50～99重量％的至少一种颜料，

(b)1～50重量％基于聚亚烷基二醇的添加剂，以及

(c)0～10重量％的助剂，其选自填料、阻燃剂、保藏剂、光稳定剂、有色和无色的分散剂、表面活性剂、抗氧化剂、消泡剂、树脂以及抗静电剂，

均基于颜料制剂的总重量计，

其中，基于聚亚烷基二醇的添加剂符合式(1)，

Z’-[-(AO-)_n-B-T-X-Y]_m-Z         (1)

其中，

AO代表C₂-C₁₀亚烷氧基单元，其中当n值大于1时A可以相同或不同，

B代表C₂-C₁₀亚烷基，

T代表-NR¹-，其中

R¹为连到X的直接的共价键，或为氢原子，C₁-C₁₈烷基，C₃-C₇环烷基，苄基或取代或未取代的C₆-C₁₈芳基且其中取代基是卤素，甲基，乙基，丙基，丁基，甲氧基，乙氧基，丙氧基，丁氧基，硝基或CF₃；

X代表下述基团之一

其中，

R为氢原子、C₁-C₁₈烷基、C₃-C₇环烷基、苄基或取代或未取代的C₆-C₁₈芳基，其中取代基是卤素，甲基，乙基，丙基，丁基，甲氧基，乙氧基，丙氧基，丁氧基，硝基或CF₃；

R²为C₁-C₁₈亚烷基、C₃-C₇环亚烷基、取代或未取代的C₆-C₁₈亚芳基，或它们的合理的化学组合，以及取代基是卤素，甲基，乙基，丙基，丁基，甲氧基，乙氧基，丙氧基，丁氧基，硝基或CF₃；

或者X选自下述基团之一：

Y代表化学键或-NR³-，其中R³具有对于R¹所述的含义之一；

Z’为氨基或为构成基团X-Y基础的羧酸或羧酸衍生物的残基，或为构成基团X-Y基础的异氰酸酯的残基，

Z为构成基团(AO)_n-B基础的胺的残基，或为构成基团X基础的羧酸或羧酸衍生物的残基，或为构成基团X基础的异氰酸酯的残基，

n为在1～200之间的数值；且

m为在1～100之间的数值。

2.如权利要求1所述的颜料制剂，其特征在于，所述颜料为选自下述的有机颜料：

单偶氮-、双偶氮-、色淀偶氮-、β-萘酚-、萘酚AS-、苯并咪唑酮-、双偶氮缩合-、偶氮-金属络合物-颜料和多环颜料，如酞菁-、喹吖酮-、苝-、紫环酮-、硫靛-、蒽嵌蒽醌-、蒽醌-、黄烷士林、阴丹酮-、异蒽酮紫-、皮蒽酮-、二噁嗪-、喹吖酞酮-、异吲哚啉酮-、异吲哚啉-以及二酮吡咯并吡咯-颜料，或来自炉黑和气黑类的酸性到碱性的炭黑。

3.如权利要求1或2所述的颜料制剂，其特征在于，

AO代表亚乙氧基单元、亚丙氧基单元或它们的结合。

4.如权利要求1-3的一项或多项所述的颜料制剂，其特征在于，B代表亚乙基或亚丙基。

5.如权利要求1-4的一项或多项所述的颜料制剂，其特征在于，X代表下述基团之一

其中

R为氢原子，并且

R²为C₁-C₁₂亚烷基或未取代的C₆-C₁₀亚芳基。

6.如权利要求1-5的一项或多项所述的颜料制剂，其特征在于，n为2-150的数值。

7.如权利要求1-6的一项或多项所述的颜料制剂，其特征在于，m为2-50的数值。