[发明专利]光波导基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 200780041570.3 申请日: 2007-11-09
公开(公告)号: CN101535887A 公开(公告)日: 2009-09-16
发明(设计)人: 吉野隆史 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: G02F1/377 分类号: G02F1/377
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 张敬强
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 波导 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光波导基板的制造方法,用于形成具有形成有周期极化反转构造 的条形光波导(20,30)的光波导基板,其特征在于,

具有:

通过在单畴化的铁电体单晶基板(8)的一个主面(8a)上所设置的梳形 电极(3)上施加电压,从而形成周期极化反转构造的电压施加工序;

去除上述梳形电极(3)的电极去除工序;以及,

在上述铁电体单晶基板(8)形成上述光波导(20,30)的光波导形成工 序,

其中,根据预先设置的校准标记M决定将梳形电极(3)的前端(3b)的 向上述一个主面(8a)的投影位置P0,光波导(20,30)的加工位置通过加 工装置所附属的显微镜测定校准标记M和作为目的的光波导的光强度中心P1 的推定位置的间隔来决定,使上述光波导(20,30)的光强度中心P1的向上 述一个主面(8a)的投影位置P2离开上述梳形电极(3)的前端(3b)的向上 述一个主面(8a)的上述投影位置P0。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,

使上述光波导的光强度中心P1的向上述一个主面的投影位置P2和上述 梳形电极的前端的向上述一个主面的投影位置P0的间隔为5μm以上。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,

使上述光波导的光强度中心P1的向上述一个主面的投影位置P2和上述 梳形电极的前端的向上述一个主面的投影位置P0的间隔为30μm以下。

4.根据权利要求1~3任一项所述的方法,其特征在于,

具有:

从上述铁电体单晶基板(8)去除上述梳形电极(3)之后,将上述铁电体 单晶基板(8)相对支撑基体(12)进行粘接的粘接工序;以及,

接着对上述铁电体单晶基板(8)从另一个主面(8b)侧进行加工而使其 变薄的薄板加工工序,从上述另一个主面(8b)侧观察上述校准标记M的同 时从上述另一个主面(8b)侧加工上述铁电体单晶基板(8)。

5.根据权利要求1~3任一项所述的方法,其特征在于,

上述铁电体单晶基板由从铌酸锂单晶、钽酸锂单晶、以及铌酸锂-钽酸锂 固溶体单晶构成的组中选择的单晶构成。

6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,

上述铁电体单晶基板由从铌酸锂单晶、钽酸锂单晶、以及铌酸锂-钽酸锂 固溶体单晶构成的组中选择的单晶构成。

7.根据权利要求1~3任一项所述的方法,其特征在于,

上述铁电体单晶基板为Z切基板。

8.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,

上述铁电体单晶基板为Z切基板。

9.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,

上述铁电体单晶基板为Z切基板。

10.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,

上述铁电体单晶基板为Z切基板。

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