[发明专利]光波导基板的制造方法有效
申请号: | 200780041570.3 | 申请日: | 2007-11-09 |
公开(公告)号: | CN101535887A | 公开(公告)日: | 2009-09-16 |
发明(设计)人: | 吉野隆史 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | G02F1/377 | 分类号: | G02F1/377 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张敬强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 波导 制造 方法 | ||
1.一种光波导基板的制造方法,用于形成具有形成有周期极化反转构造 的条形光波导(20,30)的光波导基板,其特征在于,
具有:
通过在单畴化的铁电体单晶基板(8)的一个主面(8a)上所设置的梳形 电极(3)上施加电压,从而形成周期极化反转构造的电压施加工序;
去除上述梳形电极(3)的电极去除工序;以及,
在上述铁电体单晶基板(8)形成上述光波导(20,30)的光波导形成工 序,
其中,根据预先设置的校准标记M决定将梳形电极(3)的前端(3b)的 向上述一个主面(8a)的投影位置P0,光波导(20,30)的加工位置通过加 工装置所附属的显微镜测定校准标记M和作为目的的光波导的光强度中心P1 的推定位置的间隔来决定,使上述光波导(20,30)的光强度中心P1的向上 述一个主面(8a)的投影位置P2离开上述梳形电极(3)的前端(3b)的向上 述一个主面(8a)的上述投影位置P0。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
使上述光波导的光强度中心P1的向上述一个主面的投影位置P2和上述 梳形电极的前端的向上述一个主面的投影位置P0的间隔为5μm以上。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,
使上述光波导的光强度中心P1的向上述一个主面的投影位置P2和上述 梳形电极的前端的向上述一个主面的投影位置P0的间隔为30μm以下。
4.根据权利要求1~3任一项所述的方法,其特征在于,
具有:
从上述铁电体单晶基板(8)去除上述梳形电极(3)之后,将上述铁电体 单晶基板(8)相对支撑基体(12)进行粘接的粘接工序;以及,
接着对上述铁电体单晶基板(8)从另一个主面(8b)侧进行加工而使其 变薄的薄板加工工序,从上述另一个主面(8b)侧观察上述校准标记M的同 时从上述另一个主面(8b)侧加工上述铁电体单晶基板(8)。
5.根据权利要求1~3任一项所述的方法,其特征在于,
上述铁电体单晶基板由从铌酸锂单晶、钽酸锂单晶、以及铌酸锂-钽酸锂 固溶体单晶构成的组中选择的单晶构成。
6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,
上述铁电体单晶基板由从铌酸锂单晶、钽酸锂单晶、以及铌酸锂-钽酸锂 固溶体单晶构成的组中选择的单晶构成。
7.根据权利要求1~3任一项所述的方法,其特征在于,
上述铁电体单晶基板为Z切基板。
8.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,
上述铁电体单晶基板为Z切基板。
9.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,
上述铁电体单晶基板为Z切基板。
10.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,
上述铁电体单晶基板为Z切基板。
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