[发明专利]低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法以及防反射材料

权利要求书

1.低折射率被膜形成用涂布液，其特征在于，包含具备结合有含氟有机 基团的硅原子的聚硅氧烷(A)和碳数3～12的含氟胺化合物(B)，将它们溶 于有机溶剂(C)而形成。

2.如权利要求1所述的涂布液，其特征在于，聚硅氧烷(A)具有占全 部硅原子中的5～40摩尔％的结合有含氟有机基团的硅原子。

3.如权利要求1或2所述的涂布液，其特征在于，含氟胺化合物(B) 是氢原子的一部分或全部被氟原子取代的直链状的胺或具有环结构的脂肪 族胺。

4.如权利要求1～3中任一项所述的涂布液，其特征在于，有机溶剂 (C)为选自碳数1～6的醇及碳数3～10的二醇醚的至少1种。

5.如权利要求1～4中任一项所述的涂布液，其特征在于，含有将聚 硅氧烷(A)所具有的硅原子换算成二氧化硅为0.1～15质量％的聚硅氧烷 (A)，以及相对于所述聚硅氧烷(A)的硅原子1摩尔为0.01～0.2摩尔的含 氟胺化合物(B)。

6.如权利要求1～5中任一项所述的涂布液，其特征在于，还含有以 式(1)表示的硅化合物(D)，

式中，R¹、R²、R³及R⁴分别独立地表示氢原子或碳数1～5的饱和烃基， n表示2以上的整数。

7.低折射率被膜，其特征在于，将权利要求1～6中任一项所述的涂 布液加热固化而得。

8.防反射材料，其特征在于，权利要求7所述的低折射率被膜被形成 在具有更高的折射率的基材的表面上。

9.低折射率被膜形成用涂布液的制造方法，其特征在于，在具有结合 有含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷(A)的有机溶剂(C)溶液中混合碳数 3～12的含氟胺化合物(B)。

10.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，具有结合有含氟有 机基团的硅原子的聚硅氧烷(A)的有机溶剂(C)的溶液是将具有结合有含氟 有机基团的硅原子的烷氧基硅烷的有机溶剂(C)的溶液，在相对于该烷氧基 硅烷的烷氧基1摩尔为0.2～2摩尔的酸的存在下缩聚而得的。