[发明专利]用于密封超高压流体系统的方法和装置

权利要求书

1.一种超高压流体系统的密封组件，所述系统具有被构造成沿纵 向轴线在所述系统中作往复运动的柱塞，所述密封组件包括：

带有孔的密封件，所述柱塞能够在所述孔中往复运动；

与所述密封件相邻地设置、并具有能使所述柱塞在其中往复运动 的孔的轴承；

包括内表面及外表面的密封件支座，所述内表面的第一部分包括 第一凹窝，该第一凹窝具有第一台肩、第二台肩和置于所述第一台肩 与所述第二台肩之间的纵向部分，它们共同配合以约束地接纳所述密 封件，并且基本防止所述密封件沿基本平行于所述纵向轴线的方向位 移离开所述密封件支座，所述内表面的第二部分沿周向围绕所述轴承， 所述密封件支座还包括凹槽，所述凹槽沿着所述密封件支座的所述外 表面的至少一部分的圆周而形成，并且至少部分地定位成在沿基本垂 直于所述纵向轴线的横向轴线与所述内表面的所述第一部分相对。

2.如权利要求1所述的密封组件，其中所述凹槽包括具有曲线顶 角并指向所述密封件支座的所述内表面的大致箭头形的横截面。

3.如权利要求1所述的密封组件，其中所述凹槽被构造成促使在 所述密封件支座上产生的应力分布跨过所述密封件支座的横截面的至 少一部分。

4.如权利要求1所述的密封组件，其中所述内表面的所述第一部 分沿周向围绕所述密封件。

5.如权利要求1所述的密封组件，进一步包括：

O形圈，并且其中所述第一凹窝包括形成在所述密封件支座的所 述内表面中的沿周向及纵向围绕所述O形圈的第二凹窝，所述O形圈 置于所述密封件和形成所述第二凹窝的至少一部分的所述内表面的一 部分之间。

6.一种超高压流体系统的密封组件，所述系统具有被构造成沿纵 向轴线在所述系统中作往复运动的柱塞，所述密封组件包括：

带有孔的密封件，所述柱塞能够在所述孔中往复运动；

与所述密封件相邻地设置、并具有能使所述柱塞在其中往复运动 的孔的轴承；

包括内表面及外表面的密封件支座，所述内表面的第一部分包括 第一凹窝，该第一凹窝具有第一台肩、第二台肩和置于所述第一台肩 与所述第二台肩之间的纵向部分，它们共同配合以约束地接纳所述密 封件，并且基本防止所述密封件沿基本平行于所述纵向轴线的方向位 移离开所述密封件支座，所述内表面的第二部分沿周向围绕所述轴承， 并且所述密封件支座还包括至少一个通风孔，所述通风孔被构造成与 周围环境及所述密封件支座的所述内表面的至少一部分流体连通，所 述通风孔被构造成将流体从所述内表面的附近传到周围环境。

7.一种超高压流体系统的密封件支座组件，所述系统具有被构造 成沿纵向轴线在所述系统中作往复运动的柱塞，所述密封件支座组件 包括：

带有孔的轴承，所述柱塞能够在所述孔中作往复运动；

包括内表面及外表面的密封件支座，所述内表面的第一部分包括 第一凹窝，该第一凹窝具有第一台肩、第二台肩和置于所述第一台肩 与所述第二台肩之间的纵向部分，它们共同配合以约束地接纳密封件， 并且基本防止所述密封件沿基本平行于所述纵向轴线的方向位移离开 所述密封件支座，所述内表面的第二部分沿周向围绕所述轴承，所述 密封件支座还包括凹槽，所述凹槽沿着所述密封件支座的所述外表面 的至少一部分的圆周而形成，并且至少部分地定位成在沿基本垂直于 所述纵向轴线的横向轴线与所述内表面的所述第一部分相对。

8.如权利要求7所述的密封件支座组件，其中所述凹槽包括具有 曲线顶角并指向所述密封件支座的所述内表面的大致箭头形的横截 面。

9.如权利要求7所述的密封件支座组件，其中所述凹槽被构造成 促使在所述密封件支座上产生的应力分布跨过所述密封件支座的横截 面的至少一部分。

10.如权利要求7所述的密封件支座组件，其中所述内表面的所 述第一部分被构造成沿周向围绕所述密封件。

11.如权利要求7所述的密封件支座组件，其中所述密封件支座 的内表面包括被构造成沿周向及纵向围绕O形圈的第二凹窝。