[发明专利]磁控管溅镀电极以及配置有磁控管溅镀电极的溅镀装置

权利要求书

1.一种磁控管溅镀电极，其特征在于：在与处理基板相向配置的阴极靶的后面配置有磁铁组合件，该磁铁组合件具有沿长度方向线性配置的中央磁铁，以及以围绕中央磁铁的形态配置的周边磁铁，以改变阴极靶一侧的极性，在该磁铁组合件的长度方向的端部，使产生于中央磁铁和周边磁铁间的隧道形的各磁力线中磁场垂直成分为0的位置在一定范围内向中央磁铁一侧移位。

2.根据权利要求1所述的磁控管溅镀电极，其特征在于：使前述磁场的垂直成分为0的位置移位的范围在中央磁铁的一侧，且在该中央磁铁的两端部上交错存在。

3.根据权利要求1或2所述的磁控管溅镀电极，其特征在于：使中央磁铁或周边磁铁中的至少一方的磁力产生局部性强弱。

4.根据权利要求3所述的磁控管溅镀电极，其特征在于：在前述中央磁铁之中长度方向两端部的侧面上安装规定长度的磁分流器。

5.根据权利要求1所述的磁控管溅镀电极，其特征在于：前述周边磁铁由前述中央磁铁两侧平行延伸的直线部以及桥接两个直线部的弯折部构成，前述中央磁铁和周边磁铁的各直线部为等间隔，且在前述磁铁组合件的长度方向两端部上，使中央磁铁和各直线部的间隔比磁铁组合件的中央区域的间隔窄，使前述磁场的垂直成分为0的位置移位。

6.根据权利要求5所述的磁控管溅镀电极，其特征在于：使前述直线部的一方以及中央磁铁的两端部向另一方的直线部一侧移动缩小中央磁铁和周边磁铁的各直线部在磁铁组合体的长度方向的两端部处的间隔，使中央磁铁和各直线部在两端部的间隔比磁铁组合体的中央区域的间隔窄，前述两端部为旋转对称。

7.根据权利要求5或6所述的磁控管溅镀电极，其特征在于：在前述中央磁铁的两端部中，另一直线部一侧的侧面上设置磁分流器。

8.根据权利要求6所述的磁控管溅镀电极，其特征在于：前述另一方的直线部中与磁铁组合件的长度方向的两端部相向的部分中的至少一部向中央磁铁一侧移动。

9.根据权利要求6所述的磁控管溅镀电极，其特征在于：前述另一方的直线部中与磁铁组合件的长度方向的两端部相向的部分中的至少一部的上面追加辅助磁铁。

10.根据权利要求1、2或5中的任一项所述的磁控管溅镀电极，其特征在于：配置有使前述磁铁组合件沿阴极靶背面平行往返运动的驱动手段。

11.一种溅镀装置，其特征在于：在可真空排气的溅镀室内配置了权利要求1、2或5中的任一项所述的磁控管溅镀电极，设有把规定气体导入溅镀室内的气体导入手段，以及可给阴极靶提供电力的溅镀电源。