[发明专利]阻气膜叠层体

权利要求书

1.一种阻气膜叠层体，其具有至少2层叠层在一起的阻气膜层，且阻气膜层之间夹有粘合剂层，其中，所述阻气膜层具有基材膜和至少一层结构单元层，所述结构单元层由在所述基材膜的至少一个面上依次形成的底涂层和无机薄膜层构成，并且存在于上述阻气膜层之间的直径0.5mm以上的气泡和直径0.5mm以上的异物的个数为每100cm²总计3个以下。

2.权利要求1所述的阻气膜叠层体，其具有至少3层叠层在一起的阻气膜层，且阻气膜层之间夹有粘合剂层，且存在于上述阻气膜层之间的直径0.5mm以上的气泡和直径0.5mm以上的异物的个数为每100cm²总计2个以下。

3.权利要求1或2所述的阻气膜叠层体，其在40℃、90％RH条件下的透湿度为0.02g/m²/24hr以下。

4.权利要求1或2所述的阻气膜叠层体，其总光线透射率为70％以上。

5.权利要求1或2所述的阻气膜叠层体，其中，基材膜由选自聚酯类树脂、聚碳酸酯类树脂、聚甲基丙烯酸类树脂、聚醚酰亚胺类树脂、聚醚砜类树脂和环状烯烃类树脂中的至少一种树脂制成。

6.权利要求1或2所述的阻气膜叠层体，其在40℃、90％RH条件下阻气膜层的透湿度为0.2g/m²/24hr以下。

7.权利要求1或2所述的阻气膜叠层体，其中，底涂层包含选自聚酯类树脂、聚氨酯类树脂、丙烯酸类树脂、含有异氰酸酯基团的树脂、含有噁唑啉基团的树脂、碳化二亚胺类树脂和含有醇羟基的树脂中的至少1种。

8.权利要求1或2所述的阻气膜叠层体，其中，底涂层包含选自铬、硅氧化物、铝氧化物、钛氧化物、硅氮化物、铝氮化物、钛氮化物和烃中的至少1种。

9.权利要求1或2所述的阻气膜叠层体，其中，无机薄膜层包含选自硅氧化物、铝氧化物、硅氮化物、铝氮化物和类金刚石碳中的至少1种。

10.权利要求1或2所述的阻气膜叠层体，其中，粘合剂层包含选自聚氨酯类树脂、聚酯类树脂、环氧类树脂和丙烯酸类树脂中的至少1种。

11.权利要求1所述的阻气膜叠层体，其中，在25℃、90％RH条件下粘合剂层的氧透过率为1000ml/m²/24hr/MPa以下。

12.权利要求1或2所述的阻气膜叠层体，其中，粘合剂层含有0.01～30质量％的平均粒径为0.005～50μm的无机粒子和/或有机粒子。

13.权利要求1或2所述的阻气膜叠层体，其中，粘合剂层的表面粗糙度(Rms)为0.05～40μm。

14.权利要求1或2所述的阻气膜叠层体，其是在1000Pa以下的真空气氛下加热或者照射能量线而形成的。

15.权利要求14所述的阻气膜叠层体，其中，能量线为紫外线或电子射线。

16.一种阻气膜叠层体的制造方法，其包括下述步骤：

(a)在基材上形成至少一层结构单元层，所述结构单元层由在所述基材上依次形成的底涂层和无机薄膜层构成，从而形成阻气膜层；

(b)叠层至少2层所得的阻气膜层，且阻气膜层之间夹有粘合剂层；

(c)在将阻气膜层叠层后或者进行叠层的同时，在1000Pa以下的真空气氛下进行加热或照射能量线。

17.一种阻气膜叠层体的制造方法，其包括下述步骤：

(a)在基材上形成至少一层结构单元层，所述结构单元层由在所述基材上依次形成的底涂层和无机薄膜层构成，从而形成阻气膜层；

(b)叠层至少2层所得的阻气膜层，且阻气膜层之间夹着由环氧类树脂制成的粘合剂层。

18.权利要求17所述的阻气膜叠层体的制造方法，其中，步骤(b)的粘合剂层还使用选自下述(A)和(B)的反应产物、(A)和(C)的反应产物、以及(A)、(B)和(C)的反应产物中的至少一种反应产物作为环氧树脂的固化剂，

(A)间二甲苯二胺或对二甲苯二胺；

(B)具有至少一个酰基的多官能化合物，通过其与多胺反应形成酰胺基部位，从而能够形成低聚物，

(C)碳原子数1～8的一元羧酸和/或其衍生物。

19.权利要求16～18中任一项所述的阻气膜叠层体的制造方法，其中，在40℃、90％RH条件下，阻气膜层的水蒸气透过率(透湿度)为0.2g/m²/24hr以下，并且在25℃、90％RH条件下，粘合剂层的氧透过率为1000ml/m²/24hr/MPa以下。