[发明专利]羧酸衍生物

权利要求书

1.由下式(I)表示的羧酸衍生物或其制药学上容许的盐，

式中的符号表示如下含义，

R¹：-H、低级烷基、卤代低级烷基、环烷基、芳基、杂环基、低级亚烷基-R^A、-C(O)R^B、-CO₂R^B或-S(O)_pR^B，其中，R¹中的低级亚烷基、芳基和杂环基各自可以被取代；

R^A：环烷基、芳基、杂环基、-S(O)_pR⁰、-S(O)_p-芳基、-S(O)_p-杂环基、-C(O)R⁰、-C(O)-芳基、-C(O)-杂环基、-CO₂R⁰、-OR⁰、-O-芳基、-O-杂环基、-N(R⁰)₂、-N(R⁰)-芳基、-N(R⁰)-杂环基、-C(OR⁰)(芳基)₂、-C(O)N(R⁰)-环烷基或-C(O)N(R⁰)-芳基，其中，R^A中的芳基和杂环基各自可以被取代；

R^B：低级烷基、卤代低级烷基、环烷基、芳基、杂环基、低级亚烷基-环烷基、低级亚烷基-芳基、低级亚烷基-杂环基、低级亚烷基-OR⁰、低级亚烷基-O-芳基或低级亚烷基-S(O)₂NH₂，其中，R^B中的芳基和杂环基各自可以被取代；

R⁰：-H或低级烷基；

n和p：相同或相互不同，0、1或2；

J：-C(R⁶)(R⁷)-、-O-或-S-；

R²、R³、R⁶和R⁷：相同或相互不同，-H、卤素、低级烷基、-OR⁰或芳基，其中，R²和R³、R³和R⁶、以及R⁶和R⁷可以各自成为一体而形成低级亚烷基；

R⁴：-H或低级烷基；

X：单键、-CH₂-、-(CH₂)₂-、-O-、-S-、-S(O)-或-S(O)₂-；

Y：-CH₂-或-C(O)-；

Z：C(-*)、C(R⁸)、N或N(O)，其中，Z中的*表示与L连接的键；

X¹和X²：相同或相互不同，C(R⁹)、N或N(O)；

X³和X⁴：相同或相互不同，C(R¹⁰)、N或N(O)；

R⁵：低级烷基、卤素、卤代低级烷基、-OR⁰或-O-卤代低级烷基；

R⁸、R⁹和R¹⁰：相同或相互不同，-H、低级烷基、卤素、卤代低级烷基、-OR⁰或-O-卤代低级烷基，其中，R⁶和R¹⁰可以成为一体而形成低级亚烷基、-O-低级亚烷基或低级亚烷基-O-；

L：-O-低级亚烷基、低级亚烷基-O-、-N(R¹¹)-低级亚烷基、低级亚烷基-N(R¹¹)-、-O-低级亚烷基-O-、-N(R¹¹)-低级亚烷基-N(R¹¹)-、-O-低级亚烷基-N(R¹¹)-或-N(R¹¹)-低级亚烷基-O-；

R¹¹：-H、低级烷基或-C(O)R⁰。