[发明专利]等离子处理装置有效

专利信息
申请号: 200780044171.2 申请日: 2007-11-21
公开(公告)号: CN101543141A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 仲上慎二;中野博彦 申请(专利权)人: 莎姆克株式会社
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;H01L21/205;H01L21/3065;C23C16/507
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 等离子 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种等离子处理装置,其特征在于:在被处理物的上方具备感应线圈,该感应线圈由具有相同形状的n个线圈要素构成,n为2以上,所述n个线圈要素以被处理物的表面的法线为轴配置成旋转对称,而且各线圈要素被电性地并联连接,并且所述感应线圈处于载置有所述被处理物的反应腔的上部;

所述感应线圈的各线圈要素,

当以平行于所述轴的方向将所述线圈要素投影到所述被处理物上时,接地端和给电端的投影位置处于所述反应腔的内部的相同部位,在下侧具有所述接地端、上侧具有所述给电端地围绕着所述轴旋转,

所述感应线圈的各线圈要素,包含下面部和给电部,

所述下面部是一端具备接地端且具有规定的宽度的弧状,该弧的中心角为360°/n;

所述给电部是一端具备给电端且具有规定的宽度的弧状,与所述下面部相比设置在上侧,所述给电部通过连接部与该下面部电性连接,

各线圈要素的给电端及接地端与其他的线圈要素隔开。

2.如权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于:在构成感应线圈的各线圈要素之间设置绝缘体,使各线圈要素互相绝缘。

3.如权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于:所述各线圈要素的下面部的宽度,大于给电部的宽度。

4.如权利要求3所述的等离子处理装置,其特征在于:所述各线圈要素的下面部是月牙形。

5.如权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于:所述等离子处理装置,具备直径朝着被处理物扩大的圆锥台形状的等离子生成容器;所述感应线圈,被缠绕在该等离子生成容器的外周侧面的一部分上。

6.如权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于:同心圆状地设置直径不同的2个以上的感应线圈。

7.一种等离子处理装置,其特征在于:在被处理物的上方具备感应线圈,该感应线圈由具有相同形状的n个线圈要素构成,n为2以上,所述n个线圈要素以被处理物的表面的法线为轴配置成旋转对称,而且各线圈要素被电性地并联连接;

所述感应线圈的各线圈要素,

在向被处理物的投影面中的相同部位的下侧具有接地端、上侧具有给电端地围绕着所述轴旋转,

所述感应线圈的各线圈要素,具有由包含下面部和给电部的n阶构成的阶层结构,

所述下面部是一端具备接地端且具有规定的宽度的弧状,该弧的中心角为360°/n;

所述给电部是一端具备给电端且具有规定的宽度的弧状,与所述下面部相比设置在上侧,所述给电部通过连接部与该下面部电性连接,

各线圈要素的给电端及接地端与其他的线圈要素隔开,

同心圆状地设置直径不同的2个以上的所述感应线圈,

构成所述感应线圈中直径较大的感应线圈的线圈要素的数目比构成所述感应线圈中直径较小的感应线圈的线圈要素的数目大,

构成所述感应线圈中直径较大的感应线圈的线圈要素的匝数和构成所述感应线圈中直径较小的感应线圈的线圈要素的匝数都不大于1匝。

8.一种等离子处理装置,其特征在于:在被处理物的上方具备感应线圈,该感应线圈由具有相同形状的n个线圈要素构成,n为2以上,所述n个线圈要素以被处理物的表面的法线为轴配置成旋转对称,而且各线圈要素被电性地并联连接;

所述感应线圈的各线圈要素,具有由包含下面部和给电部的n阶构成的阶层结构,

所述下面部是一端具备接地端且具有规定的宽度的弧状,该弧的中心角为360°/n;

所述给电部是一端具备给电端且具有规定的宽度的弧状,与所述下面部相比设置在上侧,所述给电部通过连接部与该下面部电性连接,

各线圈要素的给电端及接地端与其他的线圈要素隔开,

所述感应线圈中n个线圈要素配置成,使某一线圈要素的接地端和另一线圈要素的给电端位于在向被处理物的投影面中的相同部位,

同心圆状地设置直径不同的2个以上的所述感应线圈,

构成所述感应线圈中直径较大的感应线圈的线圈要素的数目比构成所述感应线圈中直径较小的感应线圈的线圈要素的数目大,

构成所述感应线圈中直径较大的感应线圈的线圈要素的匝数和构成所述感应线圈中直径较小的感应线圈的线圈要素的匝数都不大于1匝。

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