[发明专利]聚氧化烯-聚硅氧烷嵌段聚合物及其制备工艺和在水性分散体中作为消泡剂的用途有效
申请号: | 200780044365.2 | 申请日: | 2007-10-30 |
公开(公告)号: | CN101541858A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
发明(设计)人: | E·埃塞尔伯恩;R·施内勒;R·祖克尔;O·克洛克 | 申请(专利权)人: | 赢创戈尔德施米特有限公司 |
主分类号: | C08G65/336 | 分类号: | C08G65/336;C08L83/12;C08G77/46 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 于 辉 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化 聚硅氧烷嵌段 聚合物 及其 制备 工艺 水性 散体 作为 消泡剂 用途 | ||
1.制备通式(I)的聚氧化烯-聚硅氧烷嵌段聚合物的方法,
C-B-(AB)a-C1 (I)
其中
A是通式为-(CnH2nO)b-的聚氧化烯嵌段,
B是通式为-(SiR2-O)c-的聚硅氧烷嵌段,
C和C1是相同或不同的通式为Z-O-[CH2-CH(R1)O]d-的烷氧基聚氧化烯基团,
R是相同或不同的C1-4烷基或苯基,条件是至少90%的R基是甲基,
R1是相同或不同的氢、C1-12烷基或苯基,
Z是烷基、烯基、芳基或烷芳基,
a是1-20,
b是平均值,为10-130,
c是3-100,
d C和C1中的d是彼此独立的,为2-20的值,条件是平均值处于2至<15的范围,
n是2-12,且平均值在2.7-4.0范围,
所述方法通过使
A)通式为R2-[O-(CnH2nO)b-H]e的聚氧化烯醇,其中R2是e价的烃基而e是2-6,与
B)通式为Cl-(R)2-Si-(SiR2-O)c-Si(R)2-Cl的聚硅氧烷,
反应,其中还包括使用
C)通式为Z-O-[CH2-CH(R1)O]d-H的聚氧化烯醇以调整分子量。
2.通式(I)的聚氧化烯-聚硅氧烷嵌段聚合物,
C-B-(AB)a-C1 (I)
其中
A是通式为-(CnH2nO)b-的聚氧化烯嵌段,
B是通式为-(SiR2-O)c-的聚硅氧烷嵌段,
C和C1是相同或不同的通式为Z-O-[CH2-CH(R1)O]d-的烷氧基聚氧化烯基团,
R是相同或不同的C1-4烷基或苯基,条件是至少90%的R基是甲基,
R1是相同或不同的氢、C1-12烷基或苯基,
Z是烷基、烯基、芳基或烷芳基,
a是1-20,
b是平均值,为10-130,
c是3-100,
d C和C1中的d是彼此独立的,为2-20的值,条件是平均值处于2至<15的范围,
n是2-12,且平均值在2.7-4.0的范围。
3.通式(I)的聚氧化烯-聚硅氧烷嵌段聚合物在将水性分散体消泡中的用途,
C-B-(AB)a-C1 (I)
其中
A是通式为-(CnH2nO)b-的聚氧化烯嵌段,
B是通式为-(SiR2-O)c-的聚硅氧烷嵌段,
C和C1是相同或不同的通式为Z-O-[CH2-CH(R1)O]d-的烷氧基聚氧化烯基团,
R是相同或不同的C1-4烷基或苯基,条件是至少90%的R基是甲基,
R1是相同或不同的氢、C1-12烷基或苯基,
Z是烷基、烯基、芳基或烷芳基,
a是1-20,
b是平均值,为10-130,
c是3-100,
d C和C1中的d是彼此独立的,为2-20的值,条件是平均值处于2至<15的范围,
n是2-12,且平均值在2.7-4.0的范围。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赢创戈尔德施米特有限公司,未经赢创戈尔德施米特有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780044365.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。