[发明专利]具有用于减小像差的可替换、可操纵的校正布置的光学系统

权利要求书

1.一种用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，包括用于减小光学系统 的像差的至少一个操纵器(14)，其中操纵器(14)安装在所述光学系统的 物镜壳体中并且包括至少一个驱动器(13)和能够由驱动器(13)操纵的至 少一个光学元件(8)，其特征在于该操纵器(14)本身形成为使得其能够通 过沿实质正交于所述光学系统的光轴的方向移动而经由所述物镜壳体中的 横向开口被更换。

2.如权利要求1所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其特征 在于所述操纵器(14)具有能够通过至少一个驱动器(13)相对于彼此定位 的多个光学元件(8)。

3.如权利要求2所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其特征 在于所述光学元件(8)中的至少一个通过自身以可替换的方式形成且没有 改变所述操纵器(14)。

4.如权利要求2所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其特征 在于所述光学元件(8)中的至少一个具有至少一个非球面，该至少一个非 球面以这样的方式实现使得在光学元件(8)的表面相对于彼此移动、旋转 或倾斜时在光学系统中传播的波前出现变形。

5.如权利要求1所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其特征 在于所述操纵器(14)或所述操纵器(14)的部件中的至少一个能够沿着投 射曝光设备(1)的光轴方向或正交于投射曝光设备(1)的光轴方向定位。

6.如权利要求4或5所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其 特征在于所述操纵器(14)是阿尔瓦雷茨(Alvarez)元件。

7.如权利要求1所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其特征 在于所述操纵器(14)具有至少两个相邻的光学元件(8)，该至少两个相邻 的光学元件(8)的横向伸展实质正交于投射曝光设备(1)的光轴，且在该 至少两个相邻的光学元件(8)的每一个光学元件(8)处都以这样的方式设 置有至少一个驱动器(13)，使得所述驱动器(13)沿着投射曝光设备(1) 的光轴方向投射的尺寸不重叠。

8.如权利要求6所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其特征 在于提供了两个实质圆形的光学元件(8)，在每一个光学元件(8)处分别 以120度的角度距离设置了三个驱动器(13)。

9.如权利要求1-5中任一项所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)， 其特征在于在第一光学元件(8a)处设置至少一个驱动器(13b)，用于沿着 投射曝光设备(1)的光轴方向移动所述第一光学元件(8a)，且在第二光学 元件(8b)处设置了至少一个驱动器(13c)，用于沿着投射曝光设备的光轴 移动所述第二光学元件(8b)并且还用于所述第二光学元件(8b)沿着两个 轴的倾斜。

10.如权利要求1所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其特征 在于所述驱动器(13)中的至少一个以这样的方式布置在投射曝光设备(1) 中，使得在更换操纵器(14)时该驱动器保留在投射曝光设备(1)中。

11.如权利要求1所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其特征 在于所述操纵器(14)具有通过移动引导系统(18)连接到彼此的至少两个 光学元件(8a，8b)。

12.如权利要求1所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其特征 在于所述操纵器(14)具有至少一个基础安装部(12)，该至少一个基础安 装部(12)具有至少一个内安装部(20)，该至少一个内安装部设置在基础 安装部(12)中且所述至少一个光学元件(8)设置在该至少一个内安装部 中。

13.如权利要求12所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其特 征在于所述内安装部(20)被形成为相对于投射曝光设备(1)的光轴实质 旋转对称。

14.如权利要求12或13所述的用于半导体光刻的投射曝光设备(1)， 其特征在于所述至少一个驱动器(13)被设置在所述内安装部(20)上。