[发明专利]治疗计划系统的改进或其相关改进有效

专利信息
申请号: 200780044559.2 申请日: 2007-10-02
公开(公告)号: CN101547720A 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: J·加丁;P·基艾;P·利德贝里 申请(专利权)人: 伊利克塔股份有限公司
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 孔 青;付 磊
地址: 瑞典斯*** 国省代码: 瑞典;SE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 治疗 计划 系统 改进 相关
【说明书】:

发明领域

本发明涉及治疗计划系统,尤其是用于放射治疗和放射外科的治 疗计划系统。

背景技术

Leksell Gamma(Leksell伽玛刀)是众所周知的放射外科治 疗设备,如图1所示。它包含很多个以半球状阵列设置的放射性钴源, 各个钴源用于发射射向半球中心12的射线。还提供通常为半球状的 准直器14,其配备用于各个钴源10的孔眼,从而使各个钴源发射基 本上成锥形(pencil-shape)的射束。

各射束汇集至中心12处,因此该位置的剂量率非常高。半球内 的大部分其他位置仅被一个辐射源辐照到,或可能没被辐照到,因而 剂量率非常低。接近中心12的位置会被若干个(尽管非全部)辐射源辐 照到,因锥型射束的厚度不为0。因此,剂量分布由中心12的峰组成, 该峰随离开所述中心的距离增加而下降。在放射外科领域,由一个等 中心(isocenter)所产生的剂量分布通常称为“击”(“shot”)。

向多个靶标提供有效治疗解决方案变得日益重要。对多个靶标制 定治疗计划的基本问题在于LGK相互作用的剂量贡献(contribution)。 也就是说,给予一个靶标的剂量分布通常还会给予其他靶标一些剂 量。

当有多个靶标需要治疗时,情况可能变复杂。迄今为止,这已通 过多个剂量施用而将位点逐个置于在放射焦点12(图1)上来完成。结 果,各靶点都会得到初始剂量(即当位于所述装置中心12处时递送的 剂量)以及本底剂量(即在不同靶标接受初始剂量时附加递送的剂量)。 必须小心留神以保证总剂量(total dose)(即初始剂量加本底剂量)、尤其 是靶标以外部位的总剂量不超过最大预定剂量。

现有的治疗计划系统Leksell GammaPlan 5.34(LGP)允许同时对 至多10个不同的靶标进行规划。LGP将整体剂量(global dose)贡献考 虑在内,并正确显示给予各靶标的总剂量。

发明概要

LGP不能给各个单独靶标明确开据处方剂量。相反,所开据的是 整体最大剂量,其(在实践中)意指给予发生整体剂量最大值时靶标的 局部处方剂量(local prescription)。为获得给予其他靶标的预定剂量, LGP(在数字上)显示在各靶标存在的最大剂量,并允许使用者以1%或 10%的增量改变各靶标放射等中心的相对权重(与放射时间成比例)。 通过反复使用此方法,使用者最终可得到接近的为各靶标所开据的剂 量。

平衡多个靶标剂量的上述方法具有若干缺点:手动、耗时且需要 使用者留意在治疗计划系统之外的处方等剂量(prescription isodose)- 通常在纸上。最终的治疗计划并不包括这些所开据剂量的细节,因而 给以后的核查或查证带来困难。使用者唯有通过反复试验才能查明处 方剂量(prescription dose)事实上是否能够从物理上实现,也就是说, 如果请求的是不能实现的处方方案,使用者则会浪费大量时间来确定 其不可行。而且该方法不直观,难以教会新的使用者。

此外,使用者没有简单直接的方法了解局部等中心和远距离等中 心的相对剂量贡献。该信息较为重要,因为强烈的相互作用可能意味 着百分比等剂量与剂量梯度之间的关系可与单靶标的情况明显不同。

本发明设法解决这些难点并获得克服它们的系统。

因此,本发明提供治疗计划方法,该方法包括以下步骤:确定多 个治疗部位和施用到各部位的大体剂量(overall dose);对于各个特定 部位而言,确定与施用到不同部位的剂量成比例的、由针对所述各个 不同部位的剂量施加到该部位的整体剂量(global dose);构建剂量因子 矩阵(dose factor matrix),所述矩阵包含对于各部位而言由施用到其他 各部位的剂量所产生的整体剂量;对剂量因子矩阵求逆,并将其乘以 包含施用到各部位大体剂量的处方矩阵(prescription matrix),从而得到 包含各部位局部剂量的结果矩阵。

该方法提供了推导施用到各靶标的必需剂量,使得包括在辐照不 同靶标时递送的整体剂量在内,各靶标得到恰当的总剂量(total dose) 的数学直观方法。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊利克塔股份有限公司,未经伊利克塔股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780044559.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top