[发明专利]有机无机复合物有效

专利信息
申请号: 200780044585.5 申请日: 2007-12-04
公开(公告)号: CN101547947A 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: 木村信夫;芝田大干;长谷川一希 申请(专利权)人: 日本曹达株式会社
主分类号: C08F283/12 分类号: C08F283/12;C08F2/44;C08L51/08
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 蒋 亭;苗 堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 有机 无机 复合物
【权利要求书】:

1.一种有机无机复合物,其特征在于,如下得到所述有机无机复合物:

在从金属螯合物、金属有机酸盐化合物、具有2个以上的羟基或水解 性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物中选择的至少1种感 光性化合物、紫外线固化性化合物以及光聚合引发剂的存在下,对用式(I) 表示的有机硅化合物和/或其缩合物照射包含350nm以下的波长的光,

RnSiX4-n …(I)

在式中,R表示碳原子直接与Si结合的有机基团,X表示羟基或者水 解性基团,n表示1或者2,在n为2时,各R可以相同或不同,在(4- n)为2以上时,各X可以相同或不同。

2.根据权利要求1所述的有机无机复合物,其特征在于,

式(I)中的R是具有乙烯基的基团、具有环氧环的基团、具有-NR’2的基团、或者具有-N=CR”2的基团的有机硅化合物,相对于有机硅化合物 的总量为20~100重量%,在式-NR’2中,R’表示氢原子、烷基或芳基, 各R’彼此可以相同或不同,在式-N=CR”2中,R”表示氢原子或烷基,各R” 彼此可以相同或不同。

3.根据权利要求1或2所述的有机无机复合物,其特征在于,

紫外线固化性化合物是(甲基)丙烯酸酯系紫外线固化性化合物。

4.根据权利要求1或者2所述的有机无机复合物,其特征在于,

金属螯合物具有羟基或水解性基团。

5.根据权利要求1或者2所述的有机无机复合物,其特征在于,

金属有机酸盐化合物具有羟基或水解性基团。

6.根据权利要求1或者2所述的有机无机复合物,其特征在于,

具有2个以上的羟基或水解性基团的金属化合物的水解物和/或缩合 物,是相对于具有2个以上的羟基或水解性基团的金属化合物1摩尔使用 0.5摩尔以上的水进行水解得到的产物。

7.根据权利要求1或者2所述的有机无机复合物,其特征在于,

金属螯合物的水解物和/或缩合物,是相对于金属螯合物1摩尔使用 5~100摩尔的水进行水解得到的产物。

8.根据权利要求1或者2所述的有机无机复合物,其特征在于,

金属有机酸盐化合物的水解物和/或缩合物,是相对于金属有机酸盐化 合物1摩尔使用5~100摩尔的水进行水解得到的产物。

9.根据权利要求1或者2所述的有机无机复合物,其特征在于,

金属是Ti、Al、Zr或者Sn。

10.一种有机无机复合系薄膜,其特征在于,具有用式(I)表示的有 机硅化合物的缩合物以及作为金属元素的来自从金属螯合物、金属有机酸 盐化合物、具有2个以上的羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解 物及它们的缩合物中选择的至少1种对350nm以下的波长的光敏感的感光 性化合物的Ti、Al、Zr或者Sn,自膜表面至深度方向0.5μm之间的含碳 量的最小值为膜背面侧的含碳量的80%以下,还具有紫外线固化性化合物 的固化物,

RnSiX4-n …(I)

在式中,R表示碳原子直接与Si结合的有机基团,X表示羟基或者水 解性基团,n表示1或者2,在n为2时,各R可以相同或不同,在(4- n)为2以上时,各X可以相同或不同。

11.根据权利要求10所述的有机无机复合系薄膜,其特征在于,

式(I)中的R是具有乙烯基的基团、具有环氧环的基团、具有-NR’2的基团、或者具有-N=CR”2的基团的有机硅化合物,相对于有机硅化合物 的总量为20~100重量%,在式-NR’2中,R’表示氢原子、烷基或芳基, 各R’彼此可以相同或不同,在式-N=CR”2中,R”表示氢原子或烷基,各R” 彼此可以相同或不同。

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