[发明专利]用于将薄片应用到基板的方法和设备

权利要求书

1.用于建立基板的第一表面和薄片的第二表面之间的接触的方 法，该方法包括如下步骤：

-提供该基板和该薄片；

-提供在该基板和该薄片之间形成吸引力的力产生装置，当该第 一表面和该第二表面之间的第一距离小于阈值距离时，该吸引力能够 使该第二表面和该第一表面的至少部分相互靠近；

-建立该第一表面和该第二表面的第一区域之间的初始接触，同 时防止在该第一表面和该第二表面的第二区域之间建立另一个接触， 藉此该第一区域和该第二区域通过接触前缘划分，该接触前缘由该第 一区域和该第二区域之间的边界线定义；

-通过允许该接触前缘沿着该第一表面在该第二区域的方向中 前进，使得该前进由该吸引力决定，由此建立另一个接触。

2.根据权利要求1的方法，其中该吸引力为作用于该第一表面 和该第二表面之间的表面力。

3.根据权利要求2的方法，其中在建立另一个接触之前，该基 板和该薄片至少之一包括流体，使得该第一表面和该第二表面至少之 一的一部分由该流体提供。

4.根据权利要求3的方法，其中该流体与该第一表面和该第二 表面至少之一形成最多90度的接触角。

5.根据权利要求1的方法，其中建立该初始接触，使得形成至 少两个独立的接触前缘，所述至少两个独立的接触前缘中的每一个由 该第一区域和至少两个独立的第二区域中相应的区域之间的边界线 定义，并且该至少两个接触前缘中的每一个沿相应的第二区域的方向 前进以建立相应的另一个接触。

6.根据权利要求1的方法，其中

-防止该第二区域与该基板表面形成接触包括抑制该第二区域 的至少部分与该第一表面形成接触，由此在建立初始接触之后防止该 接触前缘前进；以及

-释放该第二区域的受抑制部分的一部分，以允许该接触前缘前 进。

7.根据权利要求6的方法，其中该接触前缘以一前进速率前进， 且该第二区域以一释放速率释放，该释放速率小于该前进速率。

8.根据权利要求7的方法，其中该前进速率被测量且结果用于 设定该释放速率。

9.根据权利要求7的方法，其中在另一个接触建立期间，该前 进速率被测量至少一次，且所测量的前进速率值用于调整该释放速 率。

10.根据权利要求1的方法，其中该薄片包括用于转印到该基板 的模板图案。

11.根据权利要求10的方法，其中该模板图案利用光刻工艺转 印到该基板。

12.根据权利要求10的方法，其中该模板图案包括立体表面， 且该模板图案利用模压工艺转印到该基板。

13.根据权利要求10、11或12的方法，其中在该模板图案转印 到该基板之后，该模板图案与该基板分离。

14.用于执行权利要求1的方法的设备，该设备包括：

-用于支持该基板的第一支架；

-用于支持该薄片的第二支架；

-形成吸引力的力产生装置，用于建立该初始接触。

15.根据权利要求14的设备，还用于执行权利要求7的方法， 该设备还包括用于控制该前进速率的控制装置。

16.根据权利要求15的设备，其中该控制装置包括用于抑制和 释放该第二表面的该第二区域的至少部分的抑制和释放装置。

17.根据权利要求16的设备，其中该控制装置还包括用于测量 该前进速率的测量装置。

18.根据权利要求17的设备，其中该控制装置还包括调整单元， 该调整单元能够根据所测量的前进速率来调整该释放速率。

19.根据权利要求16、17或18的设备，其中该抑制和释放装置 包括多个分隔开的装置，每个装置能够抑制和释放该薄片的第二区域 的一部分，两个相邻的分隔开的装置之间的最大距离至多为5mm。