[发明专利]具有高耐刮性和耐候性的涂料组合物有效

专利信息
申请号: 200780046678.1 申请日: 2007-12-19
公开(公告)号: CN101568565A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: M·格勒内沃尔特;A·波佩;G·克莱因;M·尼迈尔;E·韦斯特霍夫;W·施蒂贝;S·黑泽纳 申请(专利权)人: 巴斯福涂料股份公司
主分类号: C08G18/28 分类号: C08G18/28;C08G18/62;C08G18/80;C09D175/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 邓 毅
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 具有 高耐刮性 耐候性 涂料 组合
【说明书】:

技术领域

发明涉及高耐刮性的可热固化的涂料组合物,其基于质子惰性 溶剂且包含具有不同烷氧基硅烷官能度的结构单元的多元醇和多异氰 酸酯。

背景技术

WO-A-01/98393描述了2K(双组分)-涂料组合物,其包含多元醇作 为粘结剂组分和用烷氧基甲硅烷基部分地官能化的多异氰酸酯作为交 联剂组分。这些涂料组合物用作底漆并优化与金属基材、特别是铝基 材的粘附性。在OEM-连续涂漆(Serienlackierung)或修复涂漆领域 内,在这些涂料组合物之上能够施加底涂漆-清漆结构。在耐刮性和耐 候性方面,WO 01/98393的涂料组合物并没有被优化。

EP-A-0 994 117描述了可湿固化的混合物,其包含多元醇组分和 可以部分已与单烷氧基甲硅烷基烷基胺反应(其优选地已反应生成天 门冬氨酸酯)的多异氰酸酯组分。虽然由这种混合物形成的涂层具有一 定硬度,但是它们仍然在耐候性且特别是在其耐刮性方面对于OEM应 用来说仅具有有限适用性。

US-A-2006/0217472描述了涂料组合物,其可以包含羟基官能的 丙烯酸酯、低分子量多元醇组分、多异氰酸酯、和氨基官能的烷氧基 甲硅烷基组分(优选双烷氧基甲硅烷基胺)。这种涂料组合物用作底涂 漆-清漆结构中的清漆,且其产生抗刮涂层。但是,这种涂料组合物仅 具有非常有限的储存能力,且所获涂层具有很低的耐候性,特别是在 潮湿/干燥循环中对于UV辐射而言。

WO 2006/042585描述了适用于OEM-连续涂漆的清漆,且其作为主 粘结剂组分包含多异氰酸酯,其异氰酸酯基团中优选有大于90mol%与 双烷氧基甲硅烷基胺反应。这种类型的清漆具有极佳的耐刮性,同时 还有高的耐化学性和耐候性。但是仍存在对于进一步改进耐候性的需 求,特别是在潮湿/干燥循环中在UV辐射时防止形成裂纹,同时保持 高水平的耐刮性。

EP-A-1 273 640描述了2K-涂料组合物,其由多元醇组分和交联 剂组分组成,所述交联剂组分由脂肪族和/或脂环族多异氰酸酯组成, 其中0.1~95mol%的初始游离存在的异氰酸酯基团已与双烷氧基甲硅 烷基胺反应。这些涂料组合物可以用于OEM-连续涂漆,且具有良好耐 刮性,并同时还有良好的抗环境影响的耐受性。但是,这些涂料组合 物具有特别强烈的后交联倾向,因为施用之后热固化期间的转化率是 不充分的。这点特别是对耐候性存在负面影响。

发明内容

发明目的

本发明的目的是提供特别是用于OEM-连续涂漆和汽车修复涂漆 中清漆层的涂料组合物,其产生具有高度耐候性的网络,并且最大程 度上抑制了不期望地形成对于水解和气候不稳定的基团,从而确保高 耐酸性。另外,该涂料组合物应当产生具有高度耐刮性和特别是在承 受刮擦之后具有高光泽保持性的涂层。另外,该涂料和漆料,特别是 清漆,应当也能够以大于40μm的层厚制备,同时不发生应力裂纹。 这点对于涂料和漆料、特别是清漆在汽车连续涂漆(OEM)的技术上和 外观上要求特别苛刻的领域中的应用来说是关键的前提。

本发明特别地应提供一种清漆,其在潮湿/干燥循环中采用UV辐 射的气候老化处理(Bewitterung)下具有高耐受性,特别是抗开裂性, 同时还具有出色的耐刮性。

另外,这种新的涂料组合物应当容易地且以非常良好的再现性制 备,且在该涂漆施用期间不应存在任何环境问题。

解决方案

鉴于上述所提出之目的,已发现了包含至少一种含羟基的化合物 (A)和至少一种含异氰酸酯基的化合物(B)的涂料组合物,其特征在于 所述的涂料组合物的一种或多种成分包含,作为额外的官能组分的,

基于结构单元(I)和(II)的总和计2.5~97.5mol%的至少一种下 式的结构单元(I):

-N(X-SiR″x(OR′)3-x)n(X′-SiR″y(OR′)3-y)m    (I)

其中,R′=氢、烷基或环烷基,其中碳链可以被不相邻的氧、硫或 NRa基团间隔,

X、X′=具有1~20个碳原子的线性和/或支化的亚烷基或亚环烷 基,

R″=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,其中碳链可以被不相邻的氧、 硫或NRa基团间隔,

n=0~2,

m=0~2,

m+n=2,且

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