[发明专利]金属氧化物系纳米粒子、其制造方法、纳米粒子分散树脂及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200780046904.6 申请日: 2007-12-19
公开(公告)号: CN101563414A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 德光秀造 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: C08K9/04 分类号: C08K9/04;C01G23/053;C01G25/02;C08L101/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 蒋 亭;苗 堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 金属 氧化物 纳米 粒子 制造 方法 分散 树脂 及其
【权利要求书】:

1.一种金属氧化物系纳米粒子,其中,

具有核和壳,所述核由具有从第4族元素、第5族元素中选择的1种以上元素的金属氧化物构成,所述壳具有以被覆所述核的方式设置在所述核的周围的具有Si和/或Ge元素的被覆部、以及与所述Si和/或Ge元素键合而成的有机官能团。

2.根据权利要求1所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,

所述核中所含的从第4族元素、第5族元素中选择的1种以上元素的摩尔数[M]与所述壳的被覆部中所含的Si和/或Ge元素的摩尔数[Si·Ge]之比是:[M]/[Si·Ge]≥4。

3.根据权利要求1或2所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,

所述壳中所含的所述有机官能团的分子摩尔数[F]与所述壳中所含的Si和/或Ge元素的摩尔数[Si·Ge]之比是:[F]/[Si·Ge]=1或2。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,

所述核的体积分率为0.6以上且小于1。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,

所述核的金属氧化物具有晶体结构。

6.根据权利要求1~4中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,

所述核的金属氧化物为无定形。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,

所述核的金属氧化物为选自TiO2、ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O2中的至少2种以上。

8.一种权利要求1~7中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,

所述被覆部和所述有机官能团由具有Si和/或Ge元素的同一原料构成。

9.根据权利要求8所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,

所述被覆部和所述有机官能团的原料为硅烷偶联剂和/或锗偶联剂。

10.根据权利要求8或9所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,

所述被覆部和所述有机官能团的原料为Rn-Y-Xm,R表示有机官能团,Y表示Si和/或Ge,X表示OR′、Cl、Br或OCOR″,n和m表示1以上3以下且满足n+m=4的数,在OR′和OCOR″中,R′、R″为氢原子或烃基。

11.根据权利要求8~10中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,包括:

(A)在有机溶剂中,形成在内部具有水的微小液滴的反胶束的工序;

(B)以在所述(A)工序中形成的反胶束的内部为反应场,使从第4族元素、第5族元素中选择的1种以上金属M的醇盐化合物、具有非水解性有机官能团和水解性基团的硅烷偶联剂和/或锗偶联剂、以及根据情况要加入的水解性材料分别水解缩合,在金属M的氧化物粒子周围形成具有非水解性基团和羟基的硅化合物和/或锗化合物的工序;

(C)对在所述(B)工序中得到的反应液进行加热处理,形成核壳结构的金属氧化物系纳米粒子的工序,所述核壳结构的金属氧化物系纳米粒子的核为金属M的氧化物粒子,壳以硅化合物和/或锗化合物作为被覆部且具有非水解性有机官能团。

12.根据权利要求8~10中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,包括:

(D)在有机溶剂中,形成在内部具有水的微小液滴的反胶束的工序;

(E)向所述(D)工序的有机溶剂中加入从第4族元素、第5族元素中选择的1种以上金属M的醇盐化合物、具有非水解性有机官能团和水解性基团的硅烷偶联剂和/或锗偶联剂、以及根据情况要加入的水解性材料的工序;

(F)通过对所述(E)工序的有机溶剂进行加热处理,分别使其脱水缩合的工序。

13.根据权利要求11或12所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,

所述加热处理为采用微波进行的加热处理。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HOYA株式会社,未经HOYA株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780046904.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top