[发明专利]金属氧化物系纳米粒子、其制造方法、纳米粒子分散树脂及其制造方法无效
申请号: | 200780046904.6 | 申请日: | 2007-12-19 |
公开(公告)号: | CN101563414A | 公开(公告)日: | 2009-10-21 |
发明(设计)人: | 德光秀造 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | C08K9/04 | 分类号: | C08K9/04;C01G23/053;C01G25/02;C08L101/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 蒋 亭;苗 堃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 氧化物 纳米 粒子 制造 方法 分散 树脂 及其 | ||
1.一种金属氧化物系纳米粒子,其中,
具有核和壳,所述核由具有从第4族元素、第5族元素中选择的1种以上元素的金属氧化物构成,所述壳具有以被覆所述核的方式设置在所述核的周围的具有Si和/或Ge元素的被覆部、以及与所述Si和/或Ge元素键合而成的有机官能团。
2.根据权利要求1所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,
所述核中所含的从第4族元素、第5族元素中选择的1种以上元素的摩尔数[M]与所述壳的被覆部中所含的Si和/或Ge元素的摩尔数[Si·Ge]之比是:[M]/[Si·Ge]≥4。
3.根据权利要求1或2所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,
所述壳中所含的所述有机官能团的分子摩尔数[F]与所述壳中所含的Si和/或Ge元素的摩尔数[Si·Ge]之比是:[F]/[Si·Ge]=1或2。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,
所述核的体积分率为0.6以上且小于1。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,
所述核的金属氧化物具有晶体结构。
6.根据权利要求1~4中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,
所述核的金属氧化物为无定形。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子,其中,
所述核的金属氧化物为选自TiO2、ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O2中的至少2种以上。
8.一种权利要求1~7中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,
所述被覆部和所述有机官能团由具有Si和/或Ge元素的同一原料构成。
9.根据权利要求8所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,
所述被覆部和所述有机官能团的原料为硅烷偶联剂和/或锗偶联剂。
10.根据权利要求8或9所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,
所述被覆部和所述有机官能团的原料为Rn-Y-Xm,R表示有机官能团,Y表示Si和/或Ge,X表示OR′、Cl、Br或OCOR″,n和m表示1以上3以下且满足n+m=4的数,在OR′和OCOR″中,R′、R″为氢原子或烃基。
11.根据权利要求8~10中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,包括:
(A)在有机溶剂中,形成在内部具有水的微小液滴的反胶束的工序;
(B)以在所述(A)工序中形成的反胶束的内部为反应场,使从第4族元素、第5族元素中选择的1种以上金属M的醇盐化合物、具有非水解性有机官能团和水解性基团的硅烷偶联剂和/或锗偶联剂、以及根据情况要加入的水解性材料分别水解缩合,在金属M的氧化物粒子周围形成具有非水解性基团和羟基的硅化合物和/或锗化合物的工序;
(C)对在所述(B)工序中得到的反应液进行加热处理,形成核壳结构的金属氧化物系纳米粒子的工序,所述核壳结构的金属氧化物系纳米粒子的核为金属M的氧化物粒子,壳以硅化合物和/或锗化合物作为被覆部且具有非水解性有机官能团。
12.根据权利要求8~10中任一项所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,包括:
(D)在有机溶剂中,形成在内部具有水的微小液滴的反胶束的工序;
(E)向所述(D)工序的有机溶剂中加入从第4族元素、第5族元素中选择的1种以上金属M的醇盐化合物、具有非水解性有机官能团和水解性基团的硅烷偶联剂和/或锗偶联剂、以及根据情况要加入的水解性材料的工序;
(F)通过对所述(E)工序的有机溶剂进行加热处理,分别使其脱水缩合的工序。
13.根据权利要求11或12所述的金属氧化物系纳米粒子的制造方法,其中,
所述加热处理为采用微波进行的加热处理。
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