[发明专利]对混浊媒质的成像有效

专利信息
申请号: 200780047167.1 申请日: 2007-12-12
公开(公告)号: CN101563026A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: R·齐格勒;T·尼尔森 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李静岚;刘 红
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 混浊 媒质 成像
【权利要求书】:

1.一种用于对混浊媒质成像的成像系统,其包括:

-辐射源(24),其适合于照射所要成像的对象(1),

-探测系统(8),其适合于探测来自该对象(1)的辐射;所 述探测系统(8)具有分离模块(120),该分离模块至少区分来自 对象(1)的辐射成分中波长范围小于最高限额波长的低波长辐射 成分和波长范围比阈值波长大的高波长辐射成分,

-分析模块(6),其适合于形成低波长辐射成分与高波长辐 射成分的比较结果,以及

-重建单元(7),其适合于存取对各个辐射成分的比较结果, 并且根据该对各个辐射成分的比较结果来重建图像数据集。

2.根据权利要求1所述的成像系统,其中,该比较结果为:

(i)高波长辐射成分与低波长辐射成分的水平之比的形式,或者

(ii)高波长辐射成分与低波长辐射成分之间的水平差与高波长 辐射成分的水平之比的形式。

3.根据权利要求1所述的成像系统,其中

-该重建单元(7)设置为存取探测到的辐射的水平并且提供有基 于该探测到的辐射的水平重建图像的选择。

4.根据权利要求3所述的成像系统,其中

-提供控制单元来根据所应用的造影剂浓度激活所述基于探测到 的辐射的水平重建图像的选择。

5.根据权利要求1所述的成像系统,其中由对象(1)中的造影 剂所产生的光谱的辐射成分被分成下部和上部波长范围,由此区分自 吸收主导区域和非主导区域。

6.一种对混浊媒质成像的方法,包括:

-照射所要成像的对象(1),

-探测来自该对象(1)的辐射,并且至少区分来自对象(1) 的辐射成分中波长范围小于最高限额波长的低波长辐射成分和波 长范围比阈值波长大的高波长辐射成分,

-形成低波长辐射成分与高波长辐射成分的比较结果,以及

-根据各个辐射成分的比较结果,由各个辐射成分的比较结果 重建图像数据集。

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