[发明专利]Sn-B电镀液以及使用该电镀液的电镀方法有效

专利信息
申请号: 200780047536.7 申请日: 2007-12-28
公开(公告)号: CN101595248A 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: 李东宁;金相范;姜奎植 申请(专利权)人: 日进素材产业株式会社
主分类号: C25D3/30 分类号: C25D3/30
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 臧建明
地址: 韩国全*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: sn 电镀 以及 使用 方法
【权利要求书】:

1.一种以Sn为镀层主要成分的不含Pb的Sn-B电镀液,含有作为Sn离子源的硫酸锡,以及作为B离子源的二甲胺硼烷或三甲胺硼烷。

2.根据权利要求1所述以Sn为镀层主要成分的不含Pb的Sn-B电镀液,其中所述Sn离子源的量为15g/L至50g/L。

3.根据权利要求1所述以Sn为镀层主要成分的不含Pb的Sn-B电镀液,其中所述B离子源的量为0.1g/L至3.0g/L。

4.根据权利要求1所述以Sn为镀层主要成分的不含Pb的Sn-B电镀液,进一步含有30ml/L至70ml/L的硫酸。

5.根据权利要求1所述以Sn为镀层主要成分的不含Pb的Sn-B电镀液,进一步含有10g/L至40g/L的甲酚磺酸或苯酚磺酸。

6.根据权利要求1所述以Sn为镀层主要成分的不含Pb的Sn-B电镀液,进一步含有0.1g/L至0.5g/L的β-萘酚。

7.根据权利要求1所述以Sn为镀层主要成分的不含Pb的Sn-B电镀液,进一步含有0.1g/L至3g/L的明胶。

8.一种以Sn为镀层主要成分的电镀方法,使用不含Pb的Sn-B电镀液,所述不含Pb的Sn-B电镀液含有作为Sn离子源的硫酸锡,以及作为B离子源的二甲胺硼烷或三甲胺硼烷。

9.根据权利要求8所述以Sn为镀层主要成分的电镀方法,包含在0.5A/dm2至5A/dm2的电流密度下电镀所述不含Pb的Sn-B电镀液。

10.根据权利要求8或9所述以Sn为镀层主要成分的电镀方法,其中所述Sn离子源的量为15g/L至50g/L,且所述B离子源的量为0.1g/L至3.0g/L,且所述不含Pb的Sn-B电镀液进一步含有30ml/L至70ml/L的硫酸、10g/L至40g/L的甲酚磺酸或苯酚磺酸、0.1g/L至0.5g/L的β-萘酚以及0.1g/L至3g/L的明胶。

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