[发明专利]光学系统、具体而言微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜

权利要求书

1.一种光学系统，具体是一种微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物 镜，包括：

至少一影响偏振的光学布置(200、400、550)，具有至少两个、光学活 性材料的影响偏振的光学元件(210、220)，

其中至少一所述影响偏振元件(210、220)可旋转地布置，

所述光学系统具有光学系统轴(OA)，其中所述光学活性材料分别是光 学活性晶体材料并且所述光学活性晶体材料的光学晶轴分别平行于所述光 学系统轴(OA)，

可以通过旋转至少一个影响偏振的光学元件(210、220)来改变重叠 区，其中由穿过所述光学系统的光中的、同时穿过重叠区内的两个影响偏 振的光学元件(210、220)的光束定义所述重叠区。

2.根据权利要求1的光学系统，其特征在于每个所述影响偏振元件(210、 220)可旋转地布置。

3.根据权利要求1或2的光学系统，其特征在于至少一影响偏振的光 学元件(210、220)在垂直于所述光学系统的光学系统轴(OA)的平面中 是可旋转的。

4.根据权利要求2的光学系统，其特征在于每个所述影响偏振的光学 元件(210、220)在垂直于所述光学系统的光学系统轴(OA)的平面中分 别是可旋转的。

5.根据权利要求2或4的光学系统，其特征在于所述影响偏振的光学 元件(210、220)绕所述影响偏振的光学元件(210、220)的公共旋转轴可 旋转地布置。

6.根据权利要求5的光学系统，其特征在于所述光学系统具有与所述 公共旋转轴一致的光学系统轴(OA)。

7.根据权利要求1、2和4中任一项的光学系统，其特征在于所述至少 两个影响偏振的光学元件(210、220)分别具有恒定的厚度。

8.根据权利要求1、2和4中任一项的光学系统，其特征在于所述至少 两个影响偏振的光学元件(210、220)的至少一个的厚度被这样选择，使得 其产生线性偏振光90°或其奇数倍的偏振方向的旋转。

9.根据权利要求1、2和4中任一项的光学系统，其特征在于所述至少 两个影响偏振的光学元件(210、220)中的每个的厚度被这样选择，使得其 产生线性偏振光90°或其奇数倍的偏振方向的旋转。

10.根据权利要求1、2和4中任一项的光学系统，其特征在于所述光 学系统具有光学系统轴(OA)，其中所述至少两个影响偏振的光学元件(210、 220)沿所述光学系统轴(OA)直接连续布置。

11.根据权利要求1、2和4中任一项的光学系统，其特征在于所述光 学活性材料是石英、TeO₂或AgGaS₂。

12.根据权利要求1、2和4中任一项的光学系统，其特征在于存在至 少一所述影响偏振的光学布置的中性位置，在所述中性位置，所述至少两个 影响偏振的光学元件(210、220)使穿过所述布置的光的偏振状态基本未变。

13.根据权利要求1、2和4中任一项的光学系统，其特征在于存在所 述影响偏振的光学布置的至少一位置，在所述至少一位置，碰撞于所述布置 之上的线性偏振光的优选偏振方向被旋转90°。

14.根据权利要求1、2和4中任一项的光学系统，其特征在于所述至 少两个影响偏振元件(210、220)以这样的方式布置，使得其在所述光学系 统的光束路径中的有效光学表面分别为圆的扇形的几何形状。

15.根据权利要求1、2和4中任一项的光学系统，其特征在于所述至 少两个影响偏振元件(210、220)以这样的方式布置，使得其在所述光学系 统的光束路径中的有效光学表面分别为半圆的几何形状或四分之一圆的几 何形状。

16.根据权利要求1、2和4中任一项的光学系统，其特征在于所述影 响偏振光学布置具有多于2个这样的影响偏振的光学元件。