[发明专利]用于薄膜沉积装置的原料气体供应装置和残留气体处理装置及其方法

权利要求书

1.一种薄膜沉积装置的原料气体供应装置，其特征在于，包括：

薄膜沉积用腔室；

运输气体供应部，与薄膜沉积目标物隔一定间距安装，向沉积薄 膜的薄膜沉积用腔室提供用于运输金属材料的运输气体；

原料气体产生部，储存上述金属材料，升华上述金属材料使其与 上述运输气体混合；

运输气体注入线，连接上述运输气体供应部和原料气体产生部， 将运输气体和原料气体传送到上述薄膜沉积用腔室，具有用于将运输 气体或原料气体维持在升华点以上的加热器，与上述腔室连接的末端 安装有用于阻断气体注入的阀门。

2.如权利要求1所述的薄膜沉积装置的原料气体供应装置，其 特征在于，上述运输气体注入线包括调整运输气体注入量的流量控制 装置。

3.如权利要求1所述的薄膜沉积装置的原料气体供应装置，其 特征在于，还包括：

净化气体供应部，向形成在上述薄膜沉积用腔室内的光学窗注入 防止原料气体沉积的净化气体；

净化气体注入线，将上述净化气体转送到薄膜沉积用腔室。

4.如权利要求1所述的薄膜沉积装置的原料气体供应装置，其 特征在于，还包括：

保护气体供应部，注入防止上述薄膜沉积用腔室内的原料气体向 外部泄漏用的保护气体；

保护气体注入线，将上述保护气体传送到薄膜沉积用腔室。

5.如权利要求1所述的薄膜沉积装置的原料气体供应装置，其 特征在于，还包括：

保护膜用气体供应部，当形成金属薄膜时，供应在金属薄膜上部 形成保护膜或绝缘膜所用的气体；

保护膜用气体注入线，将上述保护膜用气体传送到薄膜沉积用腔 室。

6.如权利要求3所述的薄膜沉积装置的原料气体供应装置，其 特征在于，在上述净化气体供应部安装有净化排管，连接在上述净化 原料气体产生部和腔室之间，用于从净化气体供应部供应净化气体。

7.如权利要求5所述的薄膜沉积装置的原料气体供应装置，其 特征在于，还包括：

净化气体供应部，注入净化气体防止原料气体沉积在上述薄膜沉 积用腔室内的透明光学窗上；

净化气体注入线，将净化气体转送到薄膜沉积用腔室；

净化排管，安装于上述净化气体供应部上，并与上述保护膜用气 体注入线相连接，用于净化原料气体产生部和腔室之间的连接线，从 净化气体供应部供应净化气体。

8.如权利要求3至5中的任一项所述的薄膜沉积装置的原料气 体供应装置，其特征在于，包括：

流量控制装置，安装在上述净化气体注入线、保护气体注入线及 保护膜用气体注入线上，用于调整气体的流量；

阀门，安装在上述流量控制装置的前后端。

9.如权利要求3至5中的任一项所述的薄膜沉积装置的原料气 体供应装置，其特征在于，上述净化气体注入线、保护气体注入线及 保护膜用气体注入线具有加热器。

10.如权利要求1所述的薄膜沉积装置的原料气体供应装置，其 特征在于，上述原料气体产生部，包括：

金属材料供应部，用于储存金属材料；

加热部，用于将上述金属材料加热至升华点以上；

温度感测器，用于检测上述加热温度。

11.如权利要求10所述的薄膜沉积装置的原料气体供应装置， 其特征在于，上述金属材料供应部，包括：

喷嘴型气体喷射器，与运输气体注入线连接，用于喷射运输气体；

倒V字型排气口，用于排出与运输气体混合的原料气体。

12.如权利要求10所述的薄膜沉积装置的原料气体供应装置， 其特征在于，还包括，温度控制器，通过检测上述温度感测器的温度 来控制加热器的温度。