[发明专利]高分子电解质膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 200780048097.1 申请日: 2007-12-26
公开(公告)号: CN101641818A 公开(公告)日: 2010-02-03
发明(设计)人: 佐佐井孝介;山口裕树;坂口佳充;北村幸太;山下全广 申请(专利权)人: 东洋纺织株式会社
主分类号: H01M8/02 分类号: H01M8/02;H01B13/00;H01M8/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱 丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 高分子 电解 质膜 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及高分子电解质膜的制造方法。

背景技术

近年来,在能量效率和环保性上优异的新型发电技术受到关注,其中, 使用高分子固体电解质膜的固体高分子型燃料电池具有能量密度高、且与 其他方式的燃料电池相比工作温度低而易起动、停止等特性,因此作为电 动汽车和分散发电等的电源装置用途的开发不断推进。

高分子固体电解质膜通常使用质子传导性的离子交换膜。高分子固体 电解质膜除了具有质子传导性以外,还必须有防止燃料氢等透过的燃料透 过抑止性和机械强度等特性。已知电解质膜的厚度不均和皱褶、凹凸是影 响这些特性的重要因素。

迄今为止,作为消除皱褶和凹凸的方法,已报告的有对膜施加张力后 干燥的方法(例如专利文献1),但该方法有在固定部分周边与距离固定部 分最远的部分的厚度不均的问题。此外,还有只在干燥时固定无法充分消 除在之前工序中产生的皱褶和凹凸的问题。特别是通过将高分子电解质的 溶剂溶液流延于支撑体上后脱溶剂而制膜、即所谓的溶液制膜来制造的高 分子固体电解质膜,不仅要求膜形状稳定化,还要求提高膜的形态稳定性、 膜特性的稳定性等。

专利文献1:日本专利特开2003-192805公报

发明内容

本发明是以上述现有技术的技术问题为背景而完成的发明。即,本发 明的目的在于提供不易产生厚度不均和皱褶、凹凸的稳定的制膜法且能提 高膜的形态稳定性、膜特性的稳定性等的高分子电解质膜的制造方法。

本发明者进行了潜心研究,结果发现:利用下述方法能解决上述技术 问题,从而完成了本申请的第1发明。

即,本申请的第1发明的构成如下。

高分子电解质膜的制造方法,其特征在于,包括:膜形成工序(A), 使含离子性基团的高分子电解质的膜状物形成于支撑体上;酸处理工序 (B),使所述膜与含无机酸的酸性液接触从而将离子性基团转变为酸型; 酸除去工序(C),除去所述酸处理膜中的游离的酸;以及干燥工序(D), 将所述酸除去膜干燥,其中,在不将膜从支撑体剥离的情况下实施所述 (B)~(D)的工序。

根据[1]所述的高分子电解质膜的制造方法,其中,膜形成工序(A) 包括:流延工序(A1),将含离子性基团的高分子电解质的溶剂溶液流延 于支撑体上形成流延膜;干燥工序(A2),将所述流延膜干燥;以及脱溶 剂工序(A3),将所述干燥膜用与所述含离子性基团的高分子电解质的溶 剂混合的液体脱溶剂,其中,在不将膜从支撑体剥离的情况下实施工序 (A2)和工序(A3)。

根据[2]所述的高分子电解质膜的制造方法,其中,在干燥工序(A2) 中,进行干燥直至流延膜形成自支撑性膜。

根据[2]所述的高分子电解质膜的制造方法,其中,支撑体为聚对苯 二甲酸乙二醇酯薄膜。

根据[1]~[4]中任一项所述的高分子电解质膜的制造方法,其中, 含离子性基团高分子电解质具有通式1表示的重复单元。

(通式1)

[在通式1中,X表示-S(=O)2-基或-C(=O)-基,Y表示H或1价 的阳离子,Z1表示O原子或S原子中的任一种,Z2表示O原子、S原子、 -C(CH3)2-基、-C(CF3)2-基、-CH2-基、环己基、直接键合中的任一种, n1表示1以上的整数。]

在本申请的第2发明中,本发明人等进行了潜心研究,结果发现:利 用以下方法能解决上述技术问题,从而完成了本发明。

即,本发明的构成如下。

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