[发明专利]弹性表面波装置及其制造方法有效
申请号: | 200780048433.2 | 申请日: | 2007-12-28 |
公开(公告)号: | CN101573868A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
发明(设计)人: | 深野彻;福浦笃臣 | 申请(专利权)人: | 京瓷株式会社 |
主分类号: | H03H9/25 | 分类号: | H03H9/25;H01L41/09;H01L41/18;H01L41/22;H03H3/08;H03H9/145 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱 丹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 弹性 表面波 装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种弹性表面波装置,其具有:
压电基板,其传输弹性表面波;
IDT,其形成在所述压电基板的第一主面上,且至少具备一个在和所 述弹性表面波的传输方向正交的方向上具有长度方向的多个电极指构成 的梳齿状电极;
保护罩,其由光硬化性材料形成,通过覆盖所述IDT的形成区域而 与所述第一主面一起形成中空的收容空间,在所述保护罩的下端的区域具 有含有产酸材料的产酸部;
连接线,其形成在所述第一主面上,按照与所述IDT连接并且在所 述保护罩的外侧具有端部的方式从所述收容空间向隔着所述保护罩的所 述收容空间的外侧引出;和
接合膜,其由绝缘材料形成,至少介于所述保护罩的所述产酸部和所 述连接线之间而形成。
2.如权利要求1所述的弹性表面波装置,其特征在于,
所述保护罩是通过接合围绕所述IDT的框体和在所述框体上载置的 膜状盖体而形成的。
3.如权利要求1所述的弹性表面波装置,其特征在于,
还具有以埋入所述IDT的方式形成且保护所述IDT的保护膜。
4.如权利要求3所述的弹性表面波装置,其特征在于,
所述接合膜以埋入所述IDT的方式延伸形成,由此所述接合膜兼为 保护膜。
5.如权利要求1所述的弹性表面波装置,其特征在于,
所述接合膜的外周缘位于所述保护罩的外周缘的外侧。
6.如权利要求1所述的弹性表面波装置,其特征在于,
在所述连接线的所述端部上具有大致柱状的外部连接用电极,并且在 露出所述外部连接用电极的上端部分的同时,对所述保护罩和所述外部连 接用电极进行树脂密封。
7.一种弹性表面波装置的制造方法,包括:
图形形成工序,其形成IDT和与所述IDT连接而电连接所述IDT和 外部电路的连接线,所述IDT形成在压电基板的第一主面上且至少具备 一个在和所述压电基板上的弹性表面波的传输方向正交的方向上具有长 度方向的多个电极指构成的梳齿状电极;
接合膜形成工序,其至少在所述连接线之上形成由绝缘材料构成的接 合膜;和
收容空间形成工序,其通过设置保护罩形成由所述第一主面和所述保 护罩的内面包围的区域构成的中空的收容空间,所述保护罩由光硬化性材 料形成,覆盖所述IDT的形成区域并在与所述接合膜相接的下端的区域 形成有含有产酸材料的产酸部。
8.如权利要求7所述的弹性表面波装置的制造方法,其特征在于,
所述收容空间形成工序包括:
形成充满应该成为所述收容空间的空间的牺牲层的牺牲层形成工序、
以覆盖所述牺牲层的方式形成所述保护罩的保护罩形成工序、和
在所述保护罩上形成贯通孔并通过所述贯通孔除去所述牺牲层而形 成所述收容空间的牺牲层除去工序。
9.如权利要求7所述的弹性表面波装置的制造方法,其特征在于,
所述收容空间形成工序包括:
通过在所述第一主面上载置围绕所述IDT的框体来形成框部的框部 形成工序、
通过在所述框体上载置膜状的盖体来形成盖部的盖部形成工序、和
接合所述框体和所述盖体形成所述保护罩的接合工序。
10.如权利要求7所述的弹性表面波装置的制造方法,其特征在于,
在所述接合膜形成工序中,以埋入所述IDT的方式形成所述接合膜, 以使所述接合膜兼为所述IDT的保护膜。
11.如权利要求7所述的弹性表面波装置的制造方法,其特征在于, 还具有:
在所述连接线的所述端部之上设置大致柱状的外部连接用电极的电 极形成工序、和
在使所述外部连接用电极的上端部分露出的同时对所述保护罩和所 述外部连接用电极进行树脂密封的密封工序。
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