[发明专利]用阴极溅射制作方向层的方法及其实施装置

权利要求书

1.一种用阴极溅射在涂覆期间于衬底表面(4)上制作方向层的方法，在每一情形下，在该表面的切向平面内有一个标称方向性，从而在真空腔室(10)内定位至少一个带靶表面(6)的靶(5)，从靶表面(6)的至少一个区域发射出的颗粒撞击衬底表面(4)的每个目标点，靶表面(6)的原始点确定目标点处的入射方向，

其特征在于：

在每一情形下，以涂覆期间的平均值计，从入射方向撞击的颗粒的累积入射密度在与标称方向相应的方向上代表一个最大值，其中在目标点处相同正向投影于衬底表面(4)的切向平面。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：对于衬底表面(4)的至少一部分以及涂覆期间的至少一部分，限制入射角的可能范围。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于：通过在靶表面(6)和衬底表面(4)之间定位机械遮蔽元件获得对入射角可能范围的限制。

4.如权利要求1-3之一所述的方法，其特征在于：在涂覆期间控制靶表面(6)相对于衬底表面(4)的空间取向，使得在每一情形下，在期间中间点处，投影向衬底表面(4)的切向平面的那些入射方向位于围绕标称方向的优选角度范围内，会占优势。

5.如权利要求1-4之一所述的方法，其特征在于：制作一个有优选磁性方向的磁性层。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于：该方向层是一个磁性层，其优选磁性方向由标称方向确定。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于：所述方向层是一个支承层，其上依次涂覆有磁性层，在每一情形下其优选磁性方向由该支承层的标称方向确定。

8.如权利要求1-7之一所述的方法，其特征在于：所述衬底表面(4)是一个平面。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于：所述标称方向在所述衬底表面(4)上是恒定的。

10.实施权利要求1-9之一的方法的装置，其包括真空腔(10)，其中放置有至少一个靶(5)，其包括至少一个支架来连接衬底(3)，衬底表面(4)面向所述至少一个靶(5)的靶表面(6)，其特征在于：

在所述靶表面(6)和支架之间提供和定位至少一个遮蔽系统，以阻挡从所述靶表面(6)发射出的直线，其向衬底表面(4)的投影位于围绕标称方向的优选角度范围之外。

11.如权利要求10所述的装置，其特征在于：所述遮蔽系统被构型为一个准直仪，并带有几个基本平坦的板(9)，在与衬底表面(4)正交角度处对齐。

12.如权利要求11所述的装置，其特征在于：所述准直仪(8)相对支架的位置可以在两个位置之间切换，使得在一个位置每个板(9)占据一个在相应其它位置处时空闲的点。

13.如权利要求11或12所述的装置，其特征在于：所述板(9)被安装成基本彼此平行。

14.如权利要求12或13所述的装置，其特征在于：在准直仪(8)的一个位置处，每个板(9)，但是端板可能是例外，占据一个几乎在两点之间的中间的点，在相应的其它位置处，由其它板(9)占据。

15.如权利要求13和14之一所述的装置，其特征在于：通过相对于衬底表面(4)绕着向该表面取向的轴线转半圈，所述准直仪(8)能被移动至相应的其它位置。

16.如权利要求10-15之一所述的装置，其特征在于：所述遮蔽系统被设计为在至少两个相对的方向上，优选角度范围从衬底表面(4)的中心点向后者的边缘增加。

17.如权利要求13-16之一所述的装置，其特征在于：相邻板(9)之间的间隔从准直仪(8)的中心点向外端增加。

18.如权利要求11-17之一所述的装置，其特征在于：板(9)的平均长度变化，优选为从准直仪(8)的中心向外端减小。

19.如权利要求11-18之一所述的装置，其特征在于：板(9)的平均厚度变化，优选为从准直仪(8)的中心向外边缘成锥形。

20.如权利要求11-19之一所述的装置，其特征在于：所述板(9)至少一部分的厚度平行于衬底表面(4)变化，优选为所述厚度从板(9)的中心点向外边缘减小。

21.如权利要求13所述的装置，其特征在于：所述支架能够相对于靶表面(6)平行于板(9)移动。